-
1
المؤلفون: Mónica Burriel, Josep Santiso, Gemma Garcia, Albert Figueras, Z. Saltyte, Adulfas Abrutis
المصدر: Chemical Vapor Deposition. 11:106-111
مصطلحات موضوعية: Silicon, Stereochemistry, Process Chemistry and Technology, Spinel, Analytical chemistry, chemistry.chemical_element, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Partial pressure, engineering.material, X-ray photoelectron spectroscopy, chemistry, Oxidation state, engineering, Metalorganic vapour phase epitaxy, Thin film, Cobalt oxide
-
2
المؤلفون: José Santiso, Gemma Garcia, Angel Larrea, Albert Figueras, Miguel A. Laguna-Bercero, Viktor Manuel Orera, Jose I. Peña, José A. Pardo, Rosa I. Merino
المصدر: Chemical Vapor Deposition. 10:249-252
مصطلحات موضوعية: Materials science, Process Chemistry and Technology, Non-blocking I/O, Mineralogy, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Chemical vapor deposition, Anode, Surface coating, Chemical engineering, Metalorganic vapour phase epitaxy, Thin film, Deposition (law), Yttria-stabilized zirconia
-
3
المؤلفون: J. Caro, Adulfus Abrutis, Gemma Garcia, Albert Figueras, José A. Pardo, José Santiso
المصدر: Chemical Vapor Deposition. 9:279-284
مصطلحات موضوعية: Materials science, Scanning electron microscope, Process Chemistry and Technology, Mineralogy, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Substrate (electronics), Microstructure, Chemical engineering, Grain boundary, Metalorganic vapour phase epitaxy, Thin film, Layer (electronics), Yttria-stabilized zirconia
-
4
المؤلفون: R. Gerbasi, A. Figueras
المصدر: Chemical Vapor Deposition. 13:591-593
مصطلحات موضوعية: Process Chemistry and Technology, Surfaces and Interfaces, General Chemistry
-
5
المؤلفون: J. Caro, Albert Figueras, Jordi Fraxedas
المصدر: Scopus-Elsevier
مصطلحات موضوعية: Materials science, Process Chemistry and Technology, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Substrate (electronics), Interaction energy, Chemical vapor deposition, chemistry.chemical_compound, symbols.namesake, chemistry, Monolayer, symbols, Physical chemistry, Organic chemistry, Texture (crystalline), Thin film, van der Waals force, Tetrathiafulvalene
-
6
المؤلفون: Gemma Garcia, Salvador Galí, Joan Cifre, Josep Bassas, Albert Figueras, Juan Casado, J. Llibre
المصدر: Chemical Vapor Deposition. 3:91-96
مصطلحات موضوعية: Materials science, Silicon, Process Chemistry and Technology, chemistry.chemical_element, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Stress (mechanics), Crystallography, Chemical engineering, chemistry, Residual stress, Cubic zirconia, Metalorganic vapour phase epitaxy, Deformation (engineering), Yttria-stabilized zirconia
-
7
المؤلفون: S. Garelik, Albert Figueras, J. Caro
المصدر: Chemical Vapor Deposition. 2:251-253
مصطلحات موضوعية: Materials science, Process Chemistry and Technology, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Composite material, Electrical conductor
-
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.