-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: Noda, T., Vrancken, C., Vandervorst, W.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 62(6):1789-1795 Jun, 2015
-
2
المؤلفون: Maryam Shayesteh, Anne-Marie Kelleher, John Kearney, Ray Duffy, Mary Anne White
المصدر: Applied Physics Letters. 96:231909
مصطلحات موضوعية: Silicon, Materials science, Physics and Astronomy (miscellaneous), Annealing (metallurgy), Analytical chemistry, Activation, chemistry.chemical_element, Elemental semiconductors, Germanium, Epitaxy, Annealing, Ultrashallow junctions, Diffusion, Doping, Thermal stability, Sheet resistance, Deactivation, Recrystallization (metallurgy), Phosphorus, Recrystallization, Implantation, Crystallography, chemistry, Defects, Mechanism, Shallow junction
وصف الملف: application/pdf
-
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.