المؤلفون: Franck Delmotte, Françoise Varniere, Christophe Hecquet, Marie-Françoise Ravet-Krill, Evgueni Meltchakov, Marc Roulliay, Andre Rinchet

المساهمون: Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique / Scop, Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique (LCFIO), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11), Laboratoire d'interaction du rayonnement X avec la matière (LIXAM), Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), SAGEM Défense Sécurité [Massy]

المصدر: 9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et Développements Récents
9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et Développements Récents, Oct 2008, dourdan, France. pp.183, ⟨10.1051/uvx/2009030⟩

مصطلحات موضوعية: [PHYS.PHYS.PHYS-OPTICS]Physics [physics]/Physics [physics]/Optics [physics.optics], ComputingMethodologies_GENERAL, ComputingMilieux_MISCELLANEOUS

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ad93f4bfa26f71213a23bbf7e13a1dba
https://doi.org/10.1051/uvx/2009030

المؤلفون: R. Mercier Ythier, Andre Rinchet, Benoit Sassolas, Jean-Marie Mackowski, Marie-Françoise Ravet-Krill, Christophe Michel, Roland Geyl, Laurent Pinard, Elodie Roméo, Xavier Bozec, R. Flaminio, Christophe Hecquet, N. Morgado, Franck Delmotte, J.-L. Montorio

المساهمون: SAGEM Défense Sécurité [Massy], Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique / Scop, Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique (LCFIO), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11), Laboratoire des matériaux avancés (LMA), Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-Université de Lyon-Institut National de Physique Nucléaire et de Physique des Particules du CNRS (IN2P3)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

المصدر: Proc. SPIE 6921, Emerging Lithographic Technologies XII
Emerging lithographic technologies XII
Emerging lithographic technologies XII, Feb 2008, San José, United States. pp.692135, ⟨10.1117/12.787620⟩

مصطلحات موضوعية: [PHYS.PHYS.PHYS-OPTICS]Physics [physics]/Physics [physics]/Optics [physics.optics], Materials science, Computer cooling, business.industry, Extreme ultraviolet lithography, Polishing, 02 engineering and technology, Surface finish, 021001 nanoscience & nanotechnology, 7. Clean energy, 01 natural sciences, Design for manufacturability, 010309 optics, chemistry.chemical_compound, Optics, chemistry, Extreme ultraviolet, 0103 physical sciences, Water cooling, Silicon carbide, 0210 nano-technology, business, ComputingMilieux_MISCELLANEOUS

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::c3ab7889d7c5ab5eac620f815f42bc4d
https://hal-iogs.archives-ouvertes.fr/hal-00814125

المؤلفون: Frédéric Bourcier, Arnaud Jérôme, Françoise Varniere, Aurélie Hardouin, Jean-Michel Desmarres, Françoise Bridou, Marc Roulliay, Vincent Costes, Andre Rinchet, Franck Delmotte, Jacques Berthon, Christophe Hecquet, Marie-Françoise Ravet-Krill, Roland Geyl

المصدر: SPIE Proceedings.

مصطلحات موضوعية: Materials science, Thin layers, business.industry, Extreme ultraviolet lithography, Zerodur, Temperature cycling, chemistry.chemical_compound, Optical coating, Optics, chemistry, Extreme ultraviolet, Silicon carbide, Optoelectronics, Reflectometry, business

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::adbd12de354a87559a0660c5973d5111
https://doi.org/10.1117/12.723483

المؤلفون: Roland Geyl, Andre Rinchet, Emmanuel Rolland

المصدر: SPIE Proceedings.

مصطلحات موضوعية: Production line, Figuring, Optics, Materials science, Fabrication, Ion beam, business.industry, Polishing, Zerodur, business, Ion

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c6c5d877d3a900c16aa9c7a35ea7865c
https://doi.org/10.1117/12.360141

المؤلفون: Andre Rinchet, Alain Marraud, Jacques Chapuis

المصدر: SPIE Proceedings.

مصطلحات موضوعية: Materials science, business.industry, Zerodur, Dielectric, engineering.material, Reflectivity, Optics, Coating, Moment (physics), engineering, Thin film, Reflection (computer graphics), business, Large size

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3007d8b8b09a5a596caa95ecd1f8ba7c
https://doi.org/10.1117/12.950025

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