المؤلفون: J. Bruat, Laurent Favennec, Vincent Jousseaume, B. Remiat, A. Castex, Michel Pons, J. Deval, Gérard Passemard

المصدر: Microelectronic Engineering. 82:416-421

مصطلحات موضوعية: chemistry.chemical_classification, Analytical chemistry, Condensed Matter Physics, Atomic and Molecular Physics, and Optics, Dissociation (chemistry), Fourier transform spectroscopy, Surfaces, Coatings and Films, Electronic, Optical and Magnetic Materials, chemistry.chemical_compound, Hydrocarbon, Fragmentation (mass spectrometry), chemistry, Plasma-enhanced chemical vapor deposition, Molecule, Electrical and Electronic Engineering, Fourier transform infrared spectroscopy, Cyclohexene oxide

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8a86bf8072ad4bcbe79216d08db1fd76
https://doi.org/10.1016/j.mee.2005.07.025

المؤلفون: Vincent Jousseaume, B. Remiat, S. Maitrejean, Marc Verdier, Aziz Zenasni, F. Ciaramella, Gérard Passemard

المساهمون: Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

المصدر: Thin Solid Films
Thin Solid Films, Elsevier, 2006, 495 (1-2), pp.124-129

مصطلحات موضوعية: Permittivity, Materials science, Analytical chemistry, 02 engineering and technology, Dielectric, 01 natural sciences, 0103 physical sciences, Materials Chemistry, Microelectronics, [SPI.GPROC]Engineering Sciences [physics]/Chemical and Process Engineering, Composite material, Thin film, Fourier transform infrared spectroscopy, Curing (chemistry), 010302 applied physics, business.industry, Metals and Alloys, Surfaces and Interfaces, [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry, Nanoindentation, 021001 nanoscience & nanotechnology, Surfaces, Coatings and Films, Electronic, Optical and Magnetic Materials, 0210 nano-technology, Mesoporous material, business

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::53bf758b5bd48118fa225fde05230754
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00140224

المؤلفون: Laurent Favennec, Vincent Rouessac, Gérard Passemard, Vincent Jousseaume, B. Remiat, Jean Durand

المساهمون: Institut Européen des membranes (IEM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Montpellier (ENSCM)-Université Montpellier 2 - Sciences et Techniques (UM2)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université de Montpellier (UM)

المصدر: Microelectronic Engineering
Microelectronic Engineering, Elsevier, 2005, 82, pp.333-340. ⟨10.1016/j.mee.2005.07.071⟩

مصطلحات موضوعية: Permittivity, Silicon, Analytical chemistry, chemistry.chemical_element, 02 engineering and technology, Dielectric, 01 natural sciences, 0103 physical sciences, medicine, [CHIM]Chemical Sciences, Electrical and Electronic Engineering, 010302 applied physics, Plasma, 021001 nanoscience & nanotechnology, Condensed Matter Physics, medicine.disease, Atomic and Molecular Physics, and Optics, Surfaces, Coatings and Films, Electronic, Optical and Magnetic Materials, chemistry, Chemical bond, Chemical engineering, 0210 nano-technology, Mesoporous material, Selectivity, Vapours

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::2f3d98242d280a927601ac5c5d9a077a
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00080019

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.