-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: N. Shivaperumal, B.J. Chang, T.V. Riley
المصدر: Journal of Global Antimicrobial Resistance, Vol 31, Iss , Pp S14-S15 (2022)
مصطلحات موضوعية: Microbiology, QR1-502
وصف الملف: electronic resource
-
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5
المؤلفون: B.J. Chang
المصدر: Journal of the California Dental Association. 30:161-169
مصطلحات موضوعية: General Medicine
-
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7
المصدر: Proceedings of 1st International Symposium on Plasma Process-Induced Damage.
مصطلحات موضوعية: Plasma etching, Materials science, Silicon, Plasma cleaning, business.industry, Plasma etcher, chemistry.chemical_element, chemistry, Etching (microfabrication), Optoelectronics, Dry etching, Reactive-ion etching, business, Plasma processing
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::31cb3e0f05d3e3d20a6072b300e17aa5
https://doi.org/10.1109/ppid.1996.715213 -
8
المؤلفون: Chin-Kung Chang, Yean-Kuen Hsiao, Shou-Gwo Wuu, Tseng Chien-Hsien, B.J. Chang, Dun-Nian Yaung, Ho-Ching Chien, C.S. Wang
المصدر: International Electron Devices Meeting 2000. Technical Digest. IEDM (Cat. No.00CH37138).
مصطلحات موضوعية: Microlens, Materials science, Pixel, business.industry, Transistor, Photodiode, law.invention, Optics, CMOS, law, Optoelectronics, Image sensor, business, Dark current, Diode
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b2659813557f506094792cde2d5c1ede
https://doi.org/10.1109/iedm.2000.904416 -
9
المؤلفون: S.L. Pang, C.H. Liao, K.L. Lu, B.J. Chang
المصدر: 2000 5th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage (IEEE Cat. No.00TH8479).
مصطلحات موضوعية: Plasma etching, Materials science, business.industry, Plasma etcher, fungi, Contact resistance, technology, industry, and agriculture, Analytical chemistry, macromolecular substances, Isotropic etching, Etching, Optoelectronics, Dry etching, Reactive-ion etching, business, Leakage (electronics)
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::54b1d746108d544a743077a821ee0ad3
https://doi.org/10.1109/ppid.2000.870602 -
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.