-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: Wei, BoAff1, Aff2, Mao, XuAff1, Aff2, Aff3, Liu, WenAff1, Aff2, Aff3, Ji, ChunxueAff1, Aff2, Yang, GuiqiangAff1, Aff2, Bao, YidiAff1, Aff2, Chen, XiaolingAff1, Aff2, Yang, FuhuaAff1, Aff2, Aff3, Wang, XiaodongAff1, Aff2, Aff3, IDs11468023019020_cor9
المصدر: Plasmonics. 18(6):2009-2029
-
2دورية أكاديمية
المؤلفون: Yang, GuiqiangAff1, Aff2, Liu, WenAff1, Aff2, Bao, YidiAff1, Aff2, Chen, XiaolingAff1, Aff2, Ji, ChunxueAff1, Aff2, Wei, BoAff1, Aff3, Yang, FuhuaAff1, Aff2, Wang, XiaodongAff1, Aff2, Aff3, Aff4, IDs1167102303839z_cor8
المصدر: Discover Nano. 18(1)
-
3دورية أكاديمية
المؤلفون: Yang, Guiqiang, Bao, Yidi, Chen, Xiaoling, Ji, Chunxue, Wei, Bo, Liu, Wen, Wang, Xiaodong
المصدر: In Heliyon 15 July 2024 10(13)
-
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5دورية أكاديمية
المؤلفون: Zhao, Yongqiang, Liu, Wen, Bao, Yidi, Yang, Fuhua, Wang, Xiaodong
المصدر: In Materials Science in Semiconductor Processing 1 June 2022 143
-
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10دورية أكاديمية
المؤلفون: Bao, Yidi, Liu, Wen, Zhao, Yongqiang, Wei, Lei, Chen, Xiaoling, Yang, Fuhua, Wang, Xiaodong
المصدر: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics; Mar2022, Vol. 40 Issue 2, p1-9, 9p
مصطلحات موضوعية: PLASMA etching, AUDITING standards, GALLIUM arsenide, OPTOELECTRONIC devices, SURFACE passivation, OXYGEN