-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: C. Helke, C.H. Canpolat-Schmidt, G. Heldt, S. Schermer, S. Hartmann, A. Voigt, D. Reuter
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 19, Iss , Pp 100189- (2023)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, i-line stepper lithography, Negative tone resist, ma-N 1402, Mix and match, Intra level, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
-
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
3مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.