المؤلفون: Shealy, J.B., Jackson, T., Rachlin, A., Poulton, M., Bukhari, N., Ditzler, K., Gong, X., Sumpter, L., Weeks, D.

المصدر: 1999 IEEE MTT-S International Microwave Symposium Digest (Cat. No.99CH36282) Microwave symposium Microwave Symposium Digest, 1999 IEEE MTT-S International. 3:1055-1058 vol.3 1999

Relation: 1999 IEEE MTT-S International Microwave Symposium Digest

المؤلفون: Ditzler, K.

المساهمون: Stille, G., editor^Aff1, Meier, D. H., editor^Aff2, Musil, J., editor^Aff2

المصدر: Sermion Forte Sermion Spezial : Neue Daten und Perspektiven. :55-60

المؤلفون: Kaim, R., Bishop, S., Byl, O., Eldridge, D., Marganski, P., Mayer, J., Sweeney, J., Yedave, S., Fuchs, D., Spreitzer, S., Vogel, J., Dunn, J., Lundquist, P., Rolland, J., Romig, T., Newman, D., Mitchell, M., Ditzler, K.

المصدر: AIP Conference Proceedings; 11/3/2008, Vol. 1066 Issue 1, p281-284, 4p, 8 Graphs

مصطلحات موضوعية: ION implantation, ION sources, ION bombardment, INDUSTRIAL contamination, SEMICONDUCTOR doping, MANUFACTURING processes

المؤلفون: Freer, B. S., Rubin, L. M., Graf, M. A., Hoglund, D. E., Newman, D., Ditzler, K., Elshot, K., Romig, T.

المصدر: AIP Conference Proceedings; 2006, Vol. 866 Issue 1, p554-557, 4p, 1 Chart, 7 Graphs

مصطلحات موضوعية: ION implantation, FOCUSED ion beams, COMPLEMENTARY metal oxide semiconductors, SEMICONDUCTOR wafers, SEMICONDUCTOR doping, EQUIPMENT & supplies

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المساهمون: Ditzler, K [Texas Instruments Inc., Dallas, Texas 75243 (United States)]

المصدر: AIP Conference Proceedings; 1066; 1; Conference: 17. international conference on ion implantation technology, Monterey, CA (United States), 8-13 Jun 2008; Other Information: DOI: 10.1063/1.3033614; (c) 2008 American Institute of Physics; Country of input: International Atomic Energy Agency (IAEA)

وصف الملف: Medium: X; Size: page(s) 281-284

URL الوصول: http://www.osti.gov/scitech/biblio/21251668