المؤلفون: A.K. Sahoo, P.-H. Chen, C.-H. Lin, R.-S. Liu, B.-J. Lin, T.-S. Kao, P.-W. Chiu, T.-P. Huang, W.-Y. Lai, J. Wang, Y.-Y. Lee, C.-K. Kuan

المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 20, Iss , Pp 100215- (2023)

مصطلحات موضوعية: EUV interference lithography, Transmission grating mask, Line/space patterns, Half-pitch (HP), Hydrogen silsesquioxane (HSQ), Slits (SL), Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995

وصف الملف: electronic resource

Relation: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S259000722300045X; https://doaj.org/toc/2590-0072

URL الوصول: https://doaj.org/article/17765dce46814cdeb6793697e9abd2e4

المؤلفون: Sarkar, Sankha Subhra, Saidani, Menouer, Solak, Harun, David, Christian, van der Veen, Johannes Friso

المصدر: 2009 9th IEEE Conference on Nanotechnology (IEEE-NANO) Nanotechnology, 2009. IEEE-NANO 2009. 9th IEEE Conference on. :40-43 Jul, 2009

Relation: 2009 9th IEEE Conference on Nanotechnology (IEEE-NANO)

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Schnietz, Mark

مصطلحات موضوعية: EUV Interferenz Lithographie, EUV interference lithography, Self-assembled monolayers, Selbstaggregierende Monolage, Lithographie, Biochip

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2294::7b0d8d68439ca60dac8ae211ca72c4b7
https://pub.uni-bielefeld.de/record/2303892

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.