المؤلفون: R. Mercier Ythier, Andre Rinchet, Benoit Sassolas, Jean-Marie Mackowski, Marie-Françoise Ravet-Krill, Christophe Michel, Roland Geyl, Laurent Pinard, Elodie Roméo, Xavier Bozec, R. Flaminio, Christophe Hecquet, N. Morgado, Franck Delmotte, J.-L. Montorio

المساهمون: SAGEM Défense Sécurité [Massy], Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique / Scop, Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique (LCFIO), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11), Laboratoire des matériaux avancés (LMA), Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-Université de Lyon-Institut National de Physique Nucléaire et de Physique des Particules du CNRS (IN2P3)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

المصدر: Proc. SPIE 6921, Emerging Lithographic Technologies XII
Emerging lithographic technologies XII
Emerging lithographic technologies XII, Feb 2008, San José, United States. pp.692135, ⟨10.1117/12.787620⟩

مصطلحات موضوعية: [PHYS.PHYS.PHYS-OPTICS]Physics [physics]/Physics [physics]/Optics [physics.optics], Materials science, Computer cooling, business.industry, Extreme ultraviolet lithography, Polishing, 02 engineering and technology, Surface finish, 021001 nanoscience & nanotechnology, 7. Clean energy, 01 natural sciences, Design for manufacturability, 010309 optics, chemistry.chemical_compound, Optics, chemistry, Extreme ultraviolet, 0103 physical sciences, Water cooling, Silicon carbide, 0210 nano-technology, business, ComputingMilieux_MISCELLANEOUS

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::c3ab7889d7c5ab5eac620f815f42bc4d
https://hal-iogs.archives-ouvertes.fr/hal-00814125