-
1
المؤلفون: C. Le Royer, B. Mohamad, J. Biscarrat, L. Vauche, R. Escoffier, J. Buckley, S. Becu, R. Riat, C. Gillot, M. Charles, S. Ruel, P. Pimenta-Barros, N. Posseme, P. Besson, F. Boudaa, C. Vannuffel, W. Vandendaele, A.G. Viey, A. Krakovinsky, M.-A. Jaud, R. Modica, F. Iucolano, R. Le Tiec, S. Levi, M. Orsatelli, R. Gwoziecki, V. Sousa
المصدر: 2022 IEEE 34th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD).
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::44dbbb3d01be89be8061e02121c4b306
https://doi.org/10.1109/ispsd49238.2022.9813672 -
2
المؤلفون: L. Perraud, F. Delachat, J. Chartoire, H. Teyssedre, P. Quemere, F. Boudaa, M. May
المصدر: 34th European Mask and Lithography Conference.
مصطلحات موضوعية: Polynomial, Materials science, Scale (ratio), business.industry, Nanoimprint lithography, law.invention, Polynomial interpolation, Optics, law, Wafer, Dry etching, Photolithography, business, Critical dimension
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::280a1aad6b73f6d9ac09ac4a66401a4f
https://doi.org/10.1117/12.2326106 -
3
المؤلفون: L. Perraud, M. May, J. Chartoire, F. Boudaa, P. Quemere, F. Delachat, H. Teyssedre
المصدر: Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability XII.
مصطلحات موضوعية: Materials science, Scale (ratio), business.industry, law.invention, Nanoimprint lithography, Optics, law, Wafer, Dry etching, Photolithography, business, Pattern orientation, Critical dimension, Interpolation
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b6c28f65e4db5513de849f9428877715
https://doi.org/10.1117/12.2299326 -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5
المؤلفون: Nicholas Blanchard, F. Boudaa, A. Descamps-Mandine, Aziz Benamrouche, Jose Penuelas, Michel Gendry
المساهمون: INL - Hétéroepitaxie et Nanostructures (INL - H&N), Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-École supérieure de Chimie Physique Electronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Centrale de Lyon (ECL), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut Lumière Matière [Villeurbanne] (ILM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-Université de Lyon, INL - Plateforme Technologique Nanolyon (INL - Nanolyon)
المصدر: Journal of Applied Physics
Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2015, 117, pp.055302. ⟨10.1063/1.4907684⟩مصطلحات موضوعية: Materials science, Morphology (linguistics), Condensed matter physics, Nanowire, General Physics and Astronomy, chemistry.chemical_element, Germanium, Nanotechnology, [SPI.MAT]Engineering Sciences [physics]/Materials, [SPI]Engineering Sciences [physics], Nanolithography, chemistry, [SPI.OPTI]Engineering Sciences [physics]/Optics / Photonic, Vapor–liquid–solid method, [SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics, Crystal twinning
-
6مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.