المؤلفون: C. Le Royer, B. Mohamad, J. Biscarrat, L. Vauche, R. Escoffier, J. Buckley, S. Becu, R. Riat, C. Gillot, M. Charles, S. Ruel, P. Pimenta-Barros, N. Posseme, P. Besson, F. Boudaa, C. Vannuffel, W. Vandendaele, A.G. Viey, A. Krakovinsky, M.-A. Jaud, R. Modica, F. Iucolano, R. Le Tiec, S. Levi, M. Orsatelli, R. Gwoziecki, V. Sousa

المصدر: 2022 IEEE 34th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD).

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::44dbbb3d01be89be8061e02121c4b306
https://doi.org/10.1109/ispsd49238.2022.9813672

المؤلفون: L. Perraud, F. Delachat, J. Chartoire, H. Teyssedre, P. Quemere, F. Boudaa, M. May

المصدر: 34th European Mask and Lithography Conference.

مصطلحات موضوعية: Polynomial, Materials science, Scale (ratio), business.industry, Nanoimprint lithography, law.invention, Polynomial interpolation, Optics, law, Wafer, Dry etching, Photolithography, business, Critical dimension

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::280a1aad6b73f6d9ac09ac4a66401a4f
https://doi.org/10.1117/12.2326106

المؤلفون: L. Perraud, M. May, J. Chartoire, F. Boudaa, P. Quemere, F. Delachat, H. Teyssedre

المصدر: Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability XII.

مصطلحات موضوعية: Materials science, Scale (ratio), business.industry, law.invention, Nanoimprint lithography, Optics, law, Wafer, Dry etching, Photolithography, business, Pattern orientation, Critical dimension, Interpolation

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b6c28f65e4db5513de849f9428877715
https://doi.org/10.1117/12.2299326

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Nicholas Blanchard, F. Boudaa, A. Descamps-Mandine, Aziz Benamrouche, Jose Penuelas, Michel Gendry

المساهمون: INL - Hétéroepitaxie et Nanostructures (INL - H&N), Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-École supérieure de Chimie Physique Electronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Centrale de Lyon (ECL), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut Lumière Matière [Villeurbanne] (ILM), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-Université de Lyon, INL - Plateforme Technologique Nanolyon (INL - Nanolyon)

المصدر: Journal of Applied Physics
Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2015, 117, pp.055302. ⟨10.1063/1.4907684⟩

مصطلحات موضوعية: Materials science, Morphology (linguistics), Condensed matter physics, Nanowire, General Physics and Astronomy, chemistry.chemical_element, Germanium, Nanotechnology, [SPI.MAT]Engineering Sciences [physics]/Materials, [SPI]Engineering Sciences [physics], Nanolithography, chemistry, [SPI.OPTI]Engineering Sciences [physics]/Optics / Photonic, Vapor–liquid–solid method, [SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics, Crystal twinning

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::1d60f1a6a85fb28f387e1455fbd2b8d0
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01489327

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.