-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: S. Schermer, C. Helke, M. Reinhardt, S. Hartmann, F. Tank, J. Wecker, G. Heldt, A. Voigt, D. Reuter
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 23, Iss , Pp 100264- (2024)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, I-line stepper lithography, Mr-EBL 6000.5, ILM&M, Photonic integrated circuit, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
-
2دورية أكاديمية
المؤلفون: C. Helke, C.H. Canpolat-Schmidt, G. Heldt, S. Schermer, S. Hartmann, A. Voigt, D. Reuter
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 19, Iss , Pp 100189- (2023)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, i-line stepper lithography, Negative tone resist, ma-N 1402, Mix and match, Intra level, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
-
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.