-
1
المؤلفون: G. Hempel, A. Barda, S. Joshi, W. Little, G.B. Shinn, S.J. Fang, B. Morrison, M. Birang, D. Outley, T. Janecko
المصدر: Proceedings of the IEEE 1998 International Interconnect Technology Conference (Cat. No.98EX102).
مصطلحات موضوعية: Interferometry, Materials science, business.industry, Shallow trench isolation, Chemical-mechanical planarization, Electronic engineering, Optoelectronics, Process control, Dielectric, Dielectric thin films, business
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c9e2869cad3a3e96b39658c93b06fc3e
https://doi.org/10.1109/iitc.1998.704756 -
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7كتاب
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.