-
1مؤتمر
المؤلفون: Van den Hove, L., Goethals, A.M., Ronse, K., Van Bavel, M., Vandenberghe, G.
المصدر: Digest. International Electron Devices Meeting, Electron devices meeting Electron Devices Meeting, 2002. IEDM '02. International. :3-8 2002
Relation: IEEE International Electron Devices Meeting
-
2دورية أكاديمية
المؤلفون: Ronse, K., De Bisschop, P., Goethals, A.M., Hermans, J., Jonckheere, R., Light, S., Okoroanyanwu, U., Watso, R., McAfferty, D., Ivaldi, J., Oneil, T., Sewell, H.
المصدر: In Microelectronic Engineering 2004 73:5-10
-
3
المؤلفون: Goethals, A.M., Jonckheere, R., van Roey, F., Hermans, J., Eliat, A., Ronse, K., Wong, P., Zandbergen, P., Vasconi, M., Severgnini, E., Henke, W., Hohle, C., Henry, Dominique, Thony, Ph, Markey, L., Schiavone, P., Fuard, D.
المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle
المصدر: 157nm Symposium
157nm Symposium, 2002, Antwerp, BelgiumURL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::698c48dd2391537f01ed150fabbdb107
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00486211 -
4مؤتمر
المؤلفون: Veloso, A., Demuynck, S., Ercken, M., Goethals, A.M., Locorotondo, S., Lazzarino, F., Altamirano, E., Huffman, C., De Keersgieter, A., Brus, S., Demand, M., Struyf, H., De Backer, J., Hermans, J., Delvaux, C., Baudemprez, B., Vandeweyer, T., Van Roey, F., Baerts, C., Goossens, D.
المصدر: 2009 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM); 2009, p1-4, 4p
-
5مؤتمر
المؤلفون: Veloso, A., Demuynck, S., Ercken, M., Goethals, A.M., Demand, M., de Marneffe, J.-F., Altamirano, E., De Keersgieter, A., Delvaux, C., De Backer, J., Brus, S., Hermans, J., Baudemprez, B., Van Roey, F., Lorusso, G.F., Baerts, C., Goossens, D., Vrancken, C., Mertens, S., Versluijs, J.J.
المصدر: 2008 IEEE International Electron Devices Meeting; 2008, p1-4, 4p
-
6دوريةResist surface investigations for reduction of Line-Edge-Roughness in Top Surface Imaging technology
المؤلفون: Sugihara, T., Van Roey, F., Goethals, A.M., Ronse, K., Van den hove, L.
المصدر: Microelectronic Engineering; May 1999, Vol. 46 Issue: 1-4 p339-343, 5p
-
7مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.