-
1
المؤلفون: F. Rossi, H. del Puppo, R. Hugon, C. Schaffnit, L. Thomas
المصدر: Scopus-Elsevier
مصطلحات موضوعية: Hydrogen, Analytical chemistry, Infrared spectroscopy, chemistry.chemical_element, Chemical vapor deposition, Condensed Matter Physics, Mass spectrometry, Surfaces, Coatings and Films, chemistry.chemical_compound, chemistry, Boron nitride, Deposition (phase transition), Fourier transform infrared spectroscopy, Boron, Instrumentation
-
2
المؤلفون: H. del Puppo, C. Schaffnit, Y. Pauleau, R. Hugon, F. Rossi, P. Moretto, L. Thomas
المصدر: Surface and Coatings Technology. 80:13-17
مصطلحات موضوعية: Materials science, Analytical chemistry, chemistry.chemical_element, BCL3, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Chemical vapor deposition, Condensed Matter Physics, Microstructure, Surfaces, Coatings and Films, chemistry.chemical_compound, chemistry, Plasma-enhanced chemical vapor deposition, Boron nitride, Materials Chemistry, Chlorine, Thin film, Chemical composition
-
3
المؤلفون: J. Desmaison, T. Sindzingre, H. Del Puppo, L. Peccoud
المصدر: Journal de Physique IV Proceedings
Journal de Physique IV Proceedings, EDP Sciences, 1991, 02 (C2), pp.C2-421-C2-428. ⟨10.1051/jp4:1991251⟩مصطلحات موضوعية: Downstream (manufacturing), Chemical engineering, Chemistry, [PHYS.HIST]Physics [physics]/Physics archives, Environmental chemistry, 0103 physical sciences, General Physics and Astronomy, Chemical vapor deposition, 01 natural sciences, Ion source, 010305 fluids & plasmas
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::999aed727ac978213c37deac5b5a4cfa
https://doi.org/10.1051/jp4:1991251 -
4
المؤلفون: H. Del-Puppo, F. Lalanne, Bruce Boeck, N. Emonet, Audrey Berthelot, Christian Caillat, Vincent Huard, S. Barnola
المصدر: 2006 European Solid-State Device Research Conference.
مصطلحات موضوعية: Materials science, business.industry, chemistry.chemical_element, Equivalent oxide thickness, eDRAM, law.invention, Capacitor, Atomic layer deposition, chemistry, law, Electronic engineering, Optoelectronics, Leakage current density, business, Tin, Current density, Dram
-
5
المؤلفون: H. Del Puppo, L. Peccoud, J. Desmaison
المصدر: Journal de Physique IV Proceedings
Journal de Physique IV Proceedings, EDP Sciences, 1993, 03 (C3), pp.C3-241-C3-246. ⟨10.1051/jp4:1993332⟩مصطلحات موضوعية: 010302 applied physics, Silicon dioxide, Diffusion, Analytical chemistry, General Physics and Astronomy, chemistry.chemical_element, Mineralogy, 02 engineering and technology, Substrate (electronics), 021001 nanoscience & nanotechnology, 01 natural sciences, Nitrogen, Silane, Afterglow, chemistry.chemical_compound, chemistry, Impurity, [PHYS.HIST]Physics [physics]/Physics archives, 0103 physical sciences, 0210 nano-technology, Stoichiometry
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::4a0e63883f9dd4aada31e43e90236fab
https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00251389 -
6مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.