-
1مؤتمر
المؤلفون: Matsumoto, S., Tanimura, S., Hirofuji, Y.
المصدر: 1999 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings (Cat No.99CH36314) Semiconductor manufacturing Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings, 1999 IEEE International Symposium on. :329-332 1999
Relation: 1999 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings
-
2مؤتمر
المؤلفون: Ishizuka, H., Matsumoto, S., Nakata, K., Tanimura, S., Hirofuji, Y.
المصدر: Proceedings of International Symposium on Semiconductor Manufacturing Semiconductor manufacturing Semiconductor Manufacturing, 1995., IEEE/UCS/SEMI International Symposium on. :85-88 1995
Relation: Proceedings of International Symposium on Semiconductor Manufacturing
-
3مؤتمر
المؤلفون: Shimizu, N., Naito, Y., Itoh, Y., Shibata, Y., Hashimoto, K., Nishio, M., Asai, A., Ohe, K., Umimoto, H., Hirofuji, Y.
المصدر: 1992 International Technical Digest on Electron Devices Meeting Electron Devices Meeting, 1992. IEDM '92. Technical Digest., International. :279-282 1992
Relation: Proceedings of IEEE International Electron Devices Meeting
-
4مؤتمر
المؤلفون: Fujii, T., Hashimoto, S., Naito, Y., Hirofuji, Y.
المصدر: 1992 International Technical Digest on Electron Devices Meeting Electron Devices Meeting, 1992. IEDM '92. Technical Digest., International. :845-848 1992
Relation: Proceedings of IEEE International Electron Devices Meeting
-
5كتاب إلكتروني
المؤلفون: Hirofuji, Y.Aff2, Inoue, T.Aff2, Nagase, Y.Aff2
المساهمون: Moreau, R., editorAff1, King, R., editor
المصدر: Fluid Mechanics of Mixing : Modelling, Operations and Experimental Techniques. 10:197-205
-
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9مورد إلكتروني
المؤلفون: Fang, J., Yamaza, H., Uchiumi, T., Hoshino, Y., Masuda, K., Hirofuji, Y., Wagener, F.A.D.T.G., Kang, D., Nonaka, K.
المصدر: European Journal of Oral Sciences; 241; 245; 0909-8836; 3; 124; ~European Journal of Oral Sciences~241~245~~~0909-8836~3~124~~
-
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.