-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: Jehyun An, Kyeongkeun Choi, Jongseo Park, Bohyeon Kang, Hyunseo You, Sungmin Ahn, Rockhyun Baek
المصدر: Nanomaterials, Vol 13, Iss 4, p 731 (2023)
مصطلحات موضوعية: high-k gate dielectric, Al2O3, H2 plasma treatment, interface trap, plasma-enhanced atomic layer deposition, Chemistry, QD1-999
وصف الملف: electronic resource