المؤلفون: Ding, Huwen, Wei, Yayi

المصدر: 2024 2nd International Symposium of Electronics Design Automation (ISEDA) Electronics Design Automation (ISEDA), 2024 2nd International Symposium of. :574-578 May, 2024

Relation: 2024 2nd International Symposium of Electronics Design Automation (ISEDA)

المؤلفون: A.K. Sahoo, P.-H. Chen, C.-H. Lin, R.-S. Liu, B.-J. Lin, T.-S. Kao, P.-W. Chiu, T.-P. Huang, W.-Y. Lai, J. Wang, Y.-Y. Lee, C.-K. Kuan

المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 20, Iss , Pp 100215- (2023)

مصطلحات موضوعية: EUV interference lithography, Transmission grating mask, Line/space patterns, Half-pitch (HP), Hydrogen silsesquioxane (HSQ), Slits (SL), Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995

وصف الملف: electronic resource

Relation: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S259000722300045X; https://doaj.org/toc/2590-0072

URL الوصول: https://doaj.org/article/17765dce46814cdeb6793697e9abd2e4

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.