-
1مورد إلكتروني
المؤلفون: Long, LT, Long, LT, Neureuther, AR, Naulleau, PP
المصدر: Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology; vol 20, iss 3; 1932-5150
مصطلحات الفهرس: photoresist, stochastics, acid blur, Nanoscience & Nanotechnology, Optical Physics, Electrical and Electronic Engineering, article
-
2مورد إلكتروني
-
3
-
4مورد إلكتروني
-
5مورد إلكتروني
-
6مورد إلكتروني
-
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
المؤلفون: Michael T. Long, Lt. Cdr., Johnson, Laverne C.
المصدر: Neurology; Jul1968, Vol. 18 Issue 7, p714-716, 3p
-
10دورية
المؤلفون: Long, Lt. Cdr. Michael T., Johnson, Laverne C.
المصدر: Neurology (Ovid); July 1968, Vol. 18 Issue: 7 p714-716, 3p