-
1
المؤلفون: M. Jurich, Kailash Gopalakrishnan, R. S. King, L.D. Bozano, M.E. Rothwell, B. N. Kurdi, H. K. Wickramasinghe, M. Hernandez, R. S. Shenoy, Charles T. Rettner, J.J. Welser, W.P. Risk, Y. Zhang, P. M. Rice, M.I. Sanchez
المصدر: IEEE InternationalElectron Devices Meeting, 2005. IEDM Technical Digest..
مصطلحات موضوعية: Materials science, Silicon, chemistry.chemical_element, Nanotechnology, Nanoimprint lithography, law.invention, Nanolithography, chemistry, Interfacing, law, Line (geometry), Photolithography, Critical dimension, Electronic circuit
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cf593e57f2e4b02f25acae8d1bec7967
https://doi.org/10.1109/iedm.2005.1609382 -
2
المؤلفون: K.N. Chiong, Denny D. Tang, F.J. Hohn, James D. Warnock, P.J. Coane, E. Petrillo, J.Y.-C. Sun, M.G.R. Thomson, John D. Cressler, N.J. Mazzeo, M.E. Rothwell, Keith A. Jenkins, A.E. Megdanis, Joachim N. Burghartz
المصدر: International Electron Devices Meeting 1991 [Technical Digest].
مصطلحات موضوعية: Materials science, Pass transistor logic, business.industry, Heterostructure-emitter bipolar transistor, Transistor, Electrical engineering, Hardware_PERFORMANCEANDRELIABILITY, Emitter-coupled logic, Resistor–transistor logic, law.invention, Integrated injection logic, law, Hardware_INTEGRATEDCIRCUITS, business, Lithography, Electron-beam lithography, Hardware_LOGICDESIGN
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c189c47b9e38b62d51cee334832ee9b7
https://doi.org/10.1109/iedm.1991.235267 -
3
المؤلفون: F.J. Hohn, N.J. Mazzeo, P.J. Coane, A.C. Megdanis, E. Petrillo, Keith Jenkins, M.G.R. Thomson, K.N. Chiong, M.E. Rothwell, James D. Warnock, J.Y.-C. Sun, John D. Cressler, Denny D. Tang, Joachim N. Burghartz
المصدر: IEEE Electron Device Letters. 13:262-264
مصطلحات موضوعية: Materials science, business.industry, Transistor, Doping, Electrical engineering, Cutoff frequency, Electronic, Optical and Magnetic Materials, law.invention, Ion implantation, law, Optoelectronics, Electrical and Electronic Engineering, business, Lithography, Electron-beam lithography, Electronic circuit, Common emitter
-
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.