يعرض 1 - 6 نتائج من 6 نتيجة بحث عن '"Mebiene-Engohang, A.-P."', وقت الاستعلام: 0.88s تنقيح النتائج
  1. 1
    مؤتمر
    Investigation of the optics system carbonaceous contamination induced by chemically amplified resist outgassing under e-beam radiation

    المؤلفون: Mebiene-Engohang, A.-P., Pourteau, M.-L., Marusic, J.-C., Pain, L., David, S., Labau, S., Boussey, J.

    المصدر: 2014 10th Conference on Ph.D. Research in Microelectronics and Electronics (PRIME) Ph.D. Research in Microelectronics and Electronics (PRIME), 2014 10th Conference on. :1-4 Jun, 2014

    Relation: 2014 10th Conference on Ph.D. Research in Microelectronics and Electronics (PRIME)

    Full Text Finder
    أضف إلى المفضلة
  2. 2
    دورية أكاديمية
    Resist outgassing assessment for multi electron beams lithography

    المؤلفون: Mebiene-Engohang, A.-P., Michallon, P., Tiron, R., Fontaine, H., Icard, B., Bensahel, D., Pain, L., Boussey, J.

    المصدر: In Microelectronic Engineering 1 August 2014 125:58-61

    View record from ScienceDirect Full Text Finder
    أضف إلى المفضلة
  3. 3
    Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi electron beams lithography tools

    المؤلفون: Mebiene-Engohang, A-P., Pourteau, M., L., Marusic, J., C., Pain, L., Nakayama, T., Miyake, A, Smits, M., David, S., Labau, S., Boussey, J.

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle

    المصدر: Conference on Alternative Lithographic Technologies VI
    Conference on Alternative Lithographic Technologies VI, 2014, san jose, United States

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics], ComputingMilieux_MISCELLANEOUS, [PHYS] Physics [physics]

    URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::6a901a6c977b2c7e3cf566880397a92a
    https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01798368

    أضف إلى المفضلة
  4. 4
    دورية أكاديمية

    لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.

    View this record from ISI Web of Science
    أضف إلى المفضلة
  5. 5
    دورية
    Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi-electron-beam lithography tools

    المؤلفون: Resnick, Douglas J., Bencher, Christopher, Mebiene-Engohang, A.-P., Pourteau, M. L., Marusic, J. C., Pain, L., Nakayama, T., Miyake, A., Smits, M., David, S., Labau, S., Boussey, J.

    المصدر: Proceedings of SPIE; March 2014, Vol. 9049 Issue: 1 p90492Q-90492Q-11, 8958720p

    أضف إلى المفضلة
  6. 6
    دورية
    Assessment of carbon layer growth induced by resists outgassing in multi e-beams lithography

    المؤلفون: Ackmann, Paul W., Hayashi, Naoya, Marusic, JC, Pourteau, ML, Cêtre, S., Pain, L., Mebiene-Engohang, AP, David, S., Labau, S., Boussey, J.

    المصدر: Proceedings of SPIE; October 2014, Vol. 9235 Issue: 1 p923520-923520-8

    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS – أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني – حفظ البحث – جدول التنبيهات: لا شيء