-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: S. Schermer, C. Helke, M. Reinhardt, S. Hartmann, F. Tank, J. Wecker, G. Heldt, A. Voigt, D. Reuter
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 23, Iss , Pp 100264- (2024)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, I-line stepper lithography, Mr-EBL 6000.5, ILM&M, Photonic integrated circuit, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
-
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.