-
1
المؤلفون: Y. Wu, F. Cai, L. Thomas, T. Liu, A. Nourbakhsh, J. Hebding, E. Smith, R. Quon, R. Smith, A. Kumar, A. Pang, J. Holt, R. Someshwar, F. Nardi, J. Anthis, S-H. Yen, C. Chevallier, A. Uppala, X. Chen, N. Breil, T. Sherwood, K. Wong, W. Cho, D. Thompson, J. Hsu, B. Ayyagari, S. Krishnan, Wei. D. Lu, M. Chudzik
المصدر: 2022 International Electron Devices Meeting (IEDM).
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b5f5f6ac540023956c451cc3da089c12
https://doi.org/10.1109/iedm45625.2022.10019450 -
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
3
المؤلفون: Gerard Ghibaudo, X. Mescot, G. Borot, L. Rubaldo, N. Breil, J. Boussey, Didier Dutartre
المصدر: 2006 International SiGe Technology and Device Meeting.
مصطلحات موضوعية: inorganic chemicals, Materials science, Silicon, Dopant, Doping, technology, industry, and agriculture, Analytical chemistry, chemistry.chemical_element, Heterojunction, Chemical vapor deposition, Epitaxy, chemistry, Etching (microfabrication), Arsenic
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::7964439b02f6a4482ae615a609fe4bcb
https://doi.org/10.1109/istdm.2006.246563 -
4
المؤلفون: A. Pouydebasque, A. Laszcz, N. Breil, G. Rolland, J. Katcki, Thomas Skotnicki, Jacek Ratajczak, Guilhem Larrieu, Emmanuel Dubois, Aomar Halimaoui
المصدر: ECS Meeting Abstracts. :594-594
مصطلحات موضوعية: Very-large-scale integration, chemistry.chemical_compound, Materials science, chemistry, Silicon, business.industry, Silicide, MOSFET, Optoelectronics, chemistry.chemical_element, business, PMOS logic
-
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.