المؤلفون: Bachar, Abdellatif

المساهمون: Institut de Chimie de Clermont-Ferrand (ICCF), SIGMA Clermont (SIGMA Clermont)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université Clermont Auvergne [2017-2020] (UCA [2017-2020])-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Clermont Auvergne [2017-2020], Christine Robert-Goumet, Eric Tomasella, STAR, ABES

المصدر: Matériaux. Université Clermont Auvergne [2017-2020], 2019. Français. ⟨NNT : 2019CLFAC068⟩

مصطلحات موضوعية: Passivation, [CHIM.MATE] Chemical Sciences/Material chemistry, Plasma, Couches minces, Antireflet, Thin films, Reactive sputtering, Silicon carbonitride, Pulvérisation réactive, Carbonitrure de silicium, [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry, Antireflective, ECR

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المؤلفون: SIAD, Ahcene

المساهمون: Laboratoire Bourguignon des Matériaux et Procédés (LABOMAP), Arts et Métiers Sciences et Technologies, HESAM Université (HESAM)-HESAM Université (HESAM), Dipartimento di Ingegneria Elettrica Elettronica e dei Sistemi, Università degli studi di Catania [Catania], Ecole nationale supérieure d'arts et métiers - ENSAM, Corinne Nouveau, Aurélien Besnard

المصدر: Mécanique des matériaux [physics.class-ph]. Ecole nationale supérieure d'arts et métiers-ENSAM, 2016. Français. ⟨NNT : 2016ENAM0024⟩

مصطلحات موضوعية: Couches minces, Instrumentation du procédé, Characterisation, Caractérisation, Reactive sputtering, Thin films, [SPI.MECA.MEMA]Engineering Sciences [physics]/Mechanics [physics.med-ph]/Mechanics of materials [physics.class-ph], Pulvérisation réactive, Growth simulation, Simulation de croissance, Process instrumentation

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::84ae070029271a5fd3d10f745e51baf8
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المؤلفون: Farhaoui, Amira

المساهمون: STAR, ABES, Institut Pascal (IP), Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand 2 (UBP)-SIGMA Clermont (SIGMA Clermont)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut de Chimie de Clermont-Ferrand (ICCF), Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand 2 (UBP)-SIGMA Clermont (SIGMA Clermont)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand II, Angélique Bousquet, Emmanuel Centeno

المصدر: Autre. Université Blaise Pascal-Clermont-Ferrand II, 2016. Français. ⟨NNT : 2016CLF22711⟩

مصطلحات موضوعية: Antireflective system, Optical properties, Couches minces, Procédé de Gaz Réactif Pulsé, Reactive sputtering, Thin films, Simulation électromagnétique, Pulvérisation réactive, Système antireflet, Propriétés optiques, Reactive Gas Pulsing Process, Electromagnetic simulation, [CHIM.OTHE] Chemical Sciences/Other, SiOxNy, Propriétés électriques, Electrical properties, [CHIM.OTHE]Chemical Sciences/Other

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المؤلفون: Zoubian, Fadi

المساهمون: STAR, ABES, Institut de Chimie de Clermont-Ferrand (ICCF), Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand 2 (UBP)-SIGMA Clermont (SIGMA Clermont)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), SIGMA Clermont (SIGMA Clermont)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université Clermont Auvergne [2017-2020] (UCA [2017-2020])-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand II, Eric Tomasella, Angélique Bousquet

المصدر: Autre. Université Blaise Pascal-Clermont-Ferrand II, 2013. Français. ⟨NNT : 2013CLF22367⟩

مصطلحات موضوعية: TaOxNy, Ellipsometry, Couches minces, Ellipsométrie, Reactive sputtering, Thin films, Plasma analysis, Pulvérisation réactive, Structure, Target poisoning, Analyse plasma, [CHIM.OTHE] Chemical Sciences/Other, [CHIM.OTHE]Chemical Sciences/Other, Structures, Empoisonnement de cible

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المؤلفون: Marlot, André

المساهمون: Institut Jean Lamour (IJL), Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université de Lorraine (UL)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Lorraine, Alain Billard, Jean-François Pierson

المصدر: Autre. Université de Lorraine, 2012. Français. ⟨NNT : 2012LORR0319⟩

مصطلحات موضوعية: [SPI.OTHER]Engineering Sciences [physics]/Other, Zircone-Biocompatibilité, Titane -- Alliages, Reactive sputtering, Implants dentaires, Pulvérisation réactive, Zirconia, Oxyde de zirconium, Pulvérisation cathodique, Biocompatibility, Biocompatibilité, TA6V

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2592::ab21104f538b1dee52fc1d930a538285
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01749477

المؤلفون: Marlot, André

المساهمون: UL, Thèses, Institut Jean Lamour (IJL), Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université de Lorraine (UL)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Lorraine, Alain Billard, Jean-François Pierson

المصدر: Autre. Université de Lorraine, 2012. Français. ⟨NNT : 2012LORR0319⟩

مصطلحات موضوعية: [SPI.OTHER]Engineering Sciences [physics]/Other, Zircone-Biocompatibilité, Titane -- Alliages, [SPI.OTHER] Engineering Sciences [physics]/Other, Reactive sputtering, Implants dentaires, Pulvérisation réactive, Zirconia, Oxyde de zirconium, Pulvérisation cathodique, Biocompatibility, Biocompatibilité, TA6V

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URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::ab21104f538b1dee52fc1d930a538285
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المؤلفون: Jin, Chengfei

المساهمون: Laboratoire de physique des gaz et des plasmas (LPGP), Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Paris Sud - Paris XI, Marie-Christine Hugon

المصدر: Autre [cond-mat.other]. Université Paris Sud-Paris XI, 2011. Français. ⟨NNT : 2011PA112212⟩

مصطلحات موضوعية: Diffusion barrier, Ta, Reactive sputtering, RF-IPVD, HIPIMS (HPPMS), [PHYS.COND.CM-GEN]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Other [cond-mat.other], Pulvérisation réactive, Dépôt de couche mince, TaNx, Barrière de diffusion, Thin film deposition, Pulvérisation cathodique magnétron, Magnetron sputtering

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2592::554822c3f75e4deddbeccc23ab3a98ce
https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00638786/document

المؤلفون: Jin, Chengfei

المساهمون: STAR, ABES, Laboratoire de physique des gaz et des plasmas (LPGP), Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université Paris Sud - Paris XI, Marie-Christine Hugon

المصدر: Autre [cond-mat.other]. Université Paris Sud-Paris XI, 2011. Français. ⟨NNT : 2011PA112212⟩

مصطلحات موضوعية: Diffusion barrier, Reactive sputtering, RF-IPVD, Pulvérisation réactive, Barrière de diffusion, Thin film deposition, Pulvérisation cathodique magnétron, Ta, [PHYS.COND.CM-GEN] Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Other [cond-mat.other], [PHYS.COND.CM-GEN]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Other [cond-mat.other], HIPIMS (HPPMS), Dépôt de couche mince, TaNx, Magnetron sputtering

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URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::554822c3f75e4deddbeccc23ab3a98ce
https://theses.hal.science/tel-00638786

المؤلفون: Rey-Mermet, Samuel

المساهمون: Muralt, Paul

مصطلحات موضوعية: solid oxide fuel cells, YSZ, reactive magnetron sputtering, thin films, pulvérisation réactive par magnétron, films minces, piles à combustible à oxyde solide, microfabrication

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::09c39f597b7018d9b8208f736eb35764

المؤلفون: Aubry, Eric

المساهمون: Laboratoire de science et génie des surfaces (LSGS), Institut National Polytechnique de Lorraine (INPL)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut National Polytechnique de Lorraine, Alain Billard, Valérie Demange, UL, Thèses

المصدر: Autre. Institut National Polytechnique de Lorraine, 2007. Français. ⟨NNT : 2007INPL104N⟩

مصطلحات موضوعية: [SPI.OTHER]Engineering Sciences [physics]/Other, SiNx poisoning barrier, Oxyde de titane, [SPI.OTHER] Engineering Sciences [physics]/Other, Pulvérisation réactive à haute pression, Sodium poisoning, Dioxyde de titane poreux, Reactive sputtering at high pressure, Photocatalyse, Pulvérisation cathodique, Empoisonnement par le sodium, Photocatalysis, Porous titania, Barrière de diffusion en SiNx

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URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::213e6da15d31d1adaf4ae7c57bedfdc7
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01752912/document