-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: Smith, J. T., Katchman, B. A., Kullman, D. E., Obahiagbon, U., Lee, Y.-K., O'Brien, B. P., Raupp, G. B., Anderson, K. S., Christen, J. B.
المصدر: Journal of Display Technology J. Display Technol. Display Technology, Journal of. 12(3):273-280 Mar, 2016
-
2دورية أكاديمية
المؤلفون: Marrs, M. A., Moyer, C. D., Bawolek, E. J., Cordova, R. J., Trujillo, J., Raupp, G. B., Vogt, B. D.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 58(10):3428-3434 Oct, 2011
-
3دورية أكاديمية
المؤلفون: Wahl, R. E., Wang, F., Chung, H. E., Kunnen, G. R., Yip, S., Lee, E. H., Pun, E. Y. B., Raupp, G. B., Allee, D. R., Ho, J. C.
المصدر: IEEE Electron Device Letters IEEE Electron Device Lett. Electron Device Letters, IEEE. 34(6):765-767 Jun, 2013
-
4دورية أكاديمية
المؤلفون: Chen, H.-L., Hou, J., McCulloch , I., Raupp, G. B., Subramanian, V.
المصدر: Journal of Display Technology J. Display Technol. Display Technology, Journal of. 5(6):169-171 Jun, 2009
-
5كتاب إلكتروني
المؤلفون: Cale, T. S.Aff2, Raupp, G. B.Aff2, Rogers, B. R.Aff3, Myers, F. R.Aff4, Zirkle, T. E.Aff5
المساهمون: Williams, P. F., editorAff1
المصدر: Plasma Processing of Semiconductors. 336:89-108
-
6كتاب إلكتروني
المؤلفون: Raupp, G. B.Aff3, Udovic, T. J.Aff3, Dumesic, J. A.Aff3
المساهمون: Davenas, J., editorAff1, Rabette, P. M., editorAff2
المصدر: Contribution of Clusters Physics to Materials Science and Technology : From Isolated Clusters to Aggregated Materials. 104:255-293
-
7دورية أكاديمية
المؤلفون: Cale, T. S., Raupp, G. B., Gandy, T. H.
المصدر: Journal of Applied Physics; 10/1/1990, Vol. 68 Issue 7, p3645, 8p
مصطلحات موضوعية: INTEGRAL equations, CHEMICAL vapor deposition
-
8دورية أكاديمية
المؤلفون: Cale, T. S., Raupp, G. B., Gandy, T. H.
المصدر: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1992, Vol. 10 Issue 4, p1128-1134, 7p
-
9دورية أكاديمية
المؤلفون: Cale, T. S., Gandy, T. H., Raupp, G. B.
المصدر: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1991, Vol. 9 Issue 3, p524-529, 6p
-
10دورية أكاديمية
المؤلفون: Cale, T. S., Raupp, G. B.
المصدر: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1990, Vol. 8 Issue 6, p1242-1248, 7p