المؤلفون: Teodora Matei, Vasile Tiron, Roxana Jijie, Georgiana Bulai, Ioana-Laura Velicu, Daniel Cristea, Valentin Crăciun

المصدر: Frontiers in Chemistry, Vol 11 (2023)

مصطلحات موضوعية: reactive HiPIMS, band-gap engineering, photocatalytic activity, hysteresis effect, zirconium oxynitride thin film, Chemistry, QD1-999

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://www.frontiersin.org/articles/10.3389/fchem.2023.1239964/full; https://doaj.org/toc/2296-2646

URL الوصول: https://doaj.org/article/fd69c91434d74be8a1b5dfc5ca7e64a5

المؤلفون: Fernandes, Daniel Filipe Félix, Österlund, Lars, 1967, Kubart, Tomas, 1977

المصدر: Surface & Coatings Technology. 467

مصطلحات موضوعية: Reactive magnetron sputtering, Reactive HiPIMS, TiO 2 thin films, Photocatalysis, Ion assisted growth, Stearic acid

وصف الملف: electronic

URL الوصول: https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-508435
https://uu.diva-portal.org/smash/get/diva2:1785359/FULLTEXT01.pdf

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Kubart, Tomas, 1977, Fernandes, Daniel Filipe Félix, Nyberg, Tomas

المصدر: Surface & Coatings Technology. 418

مصطلحات موضوعية: Reactive sputtering, Reactive HiPIMS, Thin films, Process modelling, Metal back-attraction

وصف الملف: electronic

URL الوصول: https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-449142
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127234
https://uu.diva-portal.org/smash/get/diva2:1581021/FULLTEXT01.pdf

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Endrika Widyastuti, Fu-Yang Xu, Chen-Tien Chiu, Jhen-Hau Jan, Jue-Liang Hsu, Ying-Chieh Lee

المصدر: Catalysts, Vol 11, Iss 11, p 1416 (2021)

مصطلحات موضوعية: Ti3O, Ti3O5, Magnéli-phase, E. coli, S. aureus, reactive-HiPIMS, Chemical technology, TP1-1185, Chemistry, QD1-999

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://www.mdpi.com/2073-4344/11/11/1416; https://doaj.org/toc/2073-4344

URL الوصول: https://doaj.org/article/12f42ff9a1b94298b54abc7c01b14e5b

المؤلفون: Rashid, Md.Masud-Ur^Aff1, Archenti, Andreas^Aff1

المصدر: Nanomanufacturing and Metrology. 1(3):156-170

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Caroline Hain, Peter Schweizer, Patrick Sturm, Aurelio Borzì, Jonathan E. Thomet, Johann Michler, Aïcha Hessler-Wyser, Thomas Nelis

المصدر: Surface and Coatings Technology. 454:129188

مصطلحات موضوعية: indium7 nitride, mechanisms, reactive hipims, tof-ms, growth, design, indium nitride, band-gap, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, Condensed Matter Physics, deposition, Surfaces, Coatings and Films, microwave plasma, emission, Materials Chemistry, plasma characterisation, absorption

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::8f6611ef59b36a5812c5ea21cc5fab1a
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.129188