-
1
المؤلفون: Jonathan L. Partridge, Jessica A. Murdzek, Virginia L. Johnson, Andrew S. Cavanagh, Andreas Fischer, Thorsten Lill, Sandeep Sharma, Steven M. George
المصدر: Chemistry of Materials. 35:2058-2068
مصطلحات موضوعية: General Chemical Engineering, Materials Chemistry, General Chemistry
-
2
المؤلفون: Ann Lii-Rosales, Virginia L. Johnson, Andrew S. Cavanagh, Andreas Fischer, Thorsten Lill, Sandeep Sharma, Steven M. George
المصدر: Chemistry of Materials. 34:8641-8653
مصطلحات موضوعية: General Chemical Engineering, Materials Chemistry, General Chemistry
-
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4
المصدر: Chemistry of Materials. 33:7719-7730
مصطلحات موضوعية: Metal, Materials science, Ligand, Etching (microfabrication), General Chemical Engineering, visual_art, Inorganic chemistry, Materials Chemistry, visual_art.visual_art_medium, General Chemistry, Mass spectrometry
-
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6
المصدر: The Journal of Physical Chemistry C. 124:287-299
مصطلحات موضوعية: Imagination, Thesaurus (information retrieval), Chemical substance, Materials science, business.industry, media_common.quotation_subject, 02 engineering and technology, 010402 general chemistry, 021001 nanoscience & nanotechnology, 01 natural sciences, 0104 chemical sciences, Surfaces, Coatings and Films, Electronic, Optical and Magnetic Materials, General Energy, Etching (microfabrication), Thermal, Optoelectronics, Physical and Theoretical Chemistry, 0210 nano-technology, Science, technology and society, business, Layer (electronics), media_common
-
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9
المساهمون: Department of Chemistry
مصطلحات موضوعية: Materials science, LOW-TEMPERATURE DEPOSITION, ALLOYS, 116 Chemical sciences, Nanowire, Analytical chemistry, SI1-XGEX, chemistry.chemical_element, Germanium, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, HYDROGEN-FLUORIDE, FLUORIDE SURFACES, 010402 general chemistry, 01 natural sciences, Oxygen, 114 Physical sciences, chemistry.chemical_compound, Hydrofluoric acid, THIN-FILMS, Etching (microfabrication), DEPOSITION, X-RAY PHOTOELECTRON, GE, OXIDE, Surfaces and Interfaces, 021001 nanoscience & nanotechnology, Condensed Matter Physics, 0104 chemical sciences, Surfaces, Coatings and Films, chemistry, Physical vapor deposition, 0210 nano-technology, Layer (electronics)
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::dc7afec6473ca6c58e6999dc75cf2e3b
http://hdl.handle.net/10138/341853 -
10Electron-Enhanced Atomic Layer Deposition of Boron Nitride Thin Films at Room Temperature and 100 °C
المؤلفون: Jaclyn K, Sprenger, Huaxing, Sun, Andrew S, Cavanagh, Alexana, Roshko, Paul T, Blanchard, Steven M, George
المصدر: J Phys Chem C Nanomater Interfaces
مصطلحات موضوعية: Article