-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: S. Schermer, C. Helke, M. Reinhardt, S. Hartmann, F. Tank, J. Wecker, G. Heldt, A. Voigt, D. Reuter
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 23, Iss , Pp 100264- (2024)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, I-line stepper lithography, Mr-EBL 6000.5, ILM&M, Photonic integrated circuit, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
-
2دورية أكاديمية
المؤلفون: C. Helke, C.H. Canpolat-Schmidt, G. Heldt, S. Schermer, S. Hartmann, A. Voigt, D. Reuter
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 19, Iss , Pp 100189- (2023)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, i-line stepper lithography, Negative tone resist, ma-N 1402, Mix and match, Intra level, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
-
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7
المؤلفون: José A. C. Broekaert, L. Jurica, S. Schermer, Frank-Michael Matysik, Ernest Beinrohr, J. Paumard
المصدر: Fresenius' journal of analytical chemistry. 371(6)
مصطلحات موضوعية: Detection limit, Electrolysis, Working electrode, Chemistry, Calibration curve, law, Hydride, Electrolytic cell, Analytical chemistry, Glassy carbon, Electrochemistry, Biochemistry, law.invention
URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::892a2336db6f5db1a870bf2a2b6e6c24
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/11768460 -
8مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10مؤتمر
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.