-
1دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
2
المؤلفون: S.E. Armstrong, Scott E. Thompson, Ronald D. Schrimpf, Robert A. Reed, Mark E. Law, Toshikazu Nishida, Jonathan A. Pellish, Dale McMorrow, Hyunwoo Park, U. Roh, Daniel J. Cummings, Rajan Arora
المصدر: IEEE Transactions on Nuclear Science. 56:3203-3209
مصطلحات موضوعية: Nuclear and High Energy Physics, Electron mobility, Materials science, business.industry, Strained silicon, Bending, Semiconductor laser theory, Stress (mechanics), Compressive strength, Nuclear Energy and Engineering, Ultimate tensile strength, Optoelectronics, Electrical and Electronic Engineering, Composite material, business, Diode
-
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5
المؤلفون: H.J. Crume, Charles W. Roberts, S.E. Armstrong, C.L. Byers, Norval H. McDonald, W.W. Gibson, W.R. Davis, Melvin R. Chapin, L.C. Cox, J.N. Carriere, W.E. Hocking, Arnott A. Moore, Martin Dewey, Alois D. Newberger, J.V. Senghel, E.W. Swanson, G.M. Hughes, F.S. Fluck, Marcus L. Ward, De Los Hill, M. Evangeline Jordan, T.C. Goodson, J.O. Hall
المصدر: The Journal of the American Dental Association (1922). 12:119-126
-
6
المؤلفون: S.E. Armstrong, A.P. Burkhart, R.S. Hopkins, F.K. Heazelton, C.H. Turnquist, R.L. Rogers, J.L. Blish, H.J. Crume, G.F. Ambrose, F.L. Hunt, C.A. Herrick, Wm.H. Flint, Alexander H. Reynolds, Albert L. Midgley, A.H. Hipple, Abram Hoffman, J.G. Reid, D.M. Gallie, E.W. Elliot, T.I. Way, H.E. Germann, George M. Boehler, W.E. Stoft, B.M. Brickman, Burt Abell, Walter H. Ellis
المصدر: The Journal of the American Dental Association (1922). 9:998-1008
-
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.