يعرض 1 - 1 نتائج من 1 نتيجة بحث عن '"Shvu, S.H."', وقت الاستعلام: 0.78s تنقيح النتائج
  1. 1
    دورية أكاديمية
    The influence of Ge-implantation on the electrical characteristics of the ultra-shallow junction formed by using silicide as a diffusion source

    المؤلفون: Huang, C.T., Lei, T.F., Chu, C.H., Shvu, S.H.

    المصدر: IEEE Electron Device Letters IEEE Electron Device Lett. Electron Device Letters, IEEE. 17(3):88-90 Mar, 1996

    Full Text Finder
    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS – أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني – حفظ البحث – جدول التنبيهات: لا شيء