المؤلفون: Demolliens, O., Berruyer, P., Morand, Y., Tabone, C., Roman, A., Cochet, M., Assous, M., Feldis, H., Blanc, R., Tabouret, E., Louis, D., Arvet, C., Lajoinie, E., Gobil, Y., Passemard, G., Jourdan, F., Moussavi, M., Cordeau, M., Morel, T., Mourier, T., Ulmer, L., Sicurani, E., Tardif, F., Beverina, A., Trouillet, Y., Renaud, D.

المصدر: Proceedings of the IEEE 1999 International Interconnect Technology Conference (Cat. No.99EX247) Interconnect technology Interconnect Technology, 1999. IEEE International Conference. :198-199 1999

Relation: Proceedings of the IEEE 1999 International Interconnect Technology Conference

المؤلفون: Sicurani, E., Fayolle, M., Gobil, Y., Morand, Y.

المصدر: European Workshop Materials for Advanced Metallization, Materials for advanced metallization Materials for Advanced Metallization, 1997. MAM '97 Abstracts Booklet., European Workshop. :86-87 1997

Relation: European Workshop Materials for Advanced Metallization. MAM'97 Abstracts Booklet

المؤلفون: Bicaïs-Lépinay, N., André, F., Brevers, S., Guyader, P., Trouiller, C., Kwakman, L.F.Tz., Pokrant, S., Verkleij, D., Schampers, R., Ithier, L., Sicurani, E., Wyon, C.

المصدر: Proceedings of SPIE; Nov2006, Issue 1, p615217-615217-10, 10p

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Fayolle, M., Sicurani, E., Morand, Y.

المصدر: Microelectronic Engineering; 1997, Vol. 37 Issue: 1 p347-352, 6p

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Sicurani, E., Fayolle, M., Gobil, Y., Morand, Y.

المصدر: European Workshop Materials for Advanced Metallization,; 1998, p86-87, 2p

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.