المؤلفون: Tanemura, Tetsuo, Sato, Seiichi, Kundu, Manisha, Yamada, Chikashi, Murata, Yoshitada

المصدر: Journal of Applied Physics; Apr2009, Vol. 105 Issue 7, p074310-074310-7, 7p, 4 Black and White Photographs, 1 Diagram, 2 Graphs

مصطلحات موضوعية: SILICON oxide, CRYSTAL growth, ELECTRON diffraction, SILICON oxide films, AMORPHOUS substances, MICROCLUSTERS

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.