-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: A.K. Sahoo, P.-H. Chen, C.-H. Lin, R.-S. Liu, B.-J. Lin, T.-S. Kao, P.-W. Chiu, T.-P. Huang, W.-Y. Lai, J. Wang, Y.-Y. Lee, C.-K. Kuan
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 20, Iss , Pp 100215- (2023)
مصطلحات موضوعية: EUV interference lithography, Transmission grating mask, Line/space patterns, Half-pitch (HP), Hydrogen silsesquioxane (HSQ), Slits (SL), Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
-
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.