-
1مؤتمر
المؤلفون: Umemura, E., Fukunaga, H., Koga, Y., Nakayashiki, H.
المصدر: ISSM 2005, IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing, 2005. Semiconductor Manufacturing Semiconductor Manufacturing, 2005. ISSM 2005, IEEE International Symposium on. :225-228 2005
Relation: ISSM 2005 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing. Conference Proceedings
-
2مؤتمر
المؤلفون: Fukuda, Y., Kato, K., Umemura, E.
المصدر: 1996 Proceedings Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium Electrical overstress/electrostatic discharge symposium Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium, 1996. Proceedings. :76-84 1996
Relation: Proceedings of 18th Annual Electrical Overstress/Electrostatic Discharge Symposium
-
3دورية أكاديمية
المؤلفون: Kohara, K., Kurita, K., Kuroiwa, Y., Goto, S., Umemura, E.
المصدر: In International Journal of Oral & Maxillofacial Surgery February 2015 44(2):259-266
-
4مؤتمر
المؤلفون: Umemura, E., Onoda, H., Madokoro, S.
المصدر: 26th Annual Proceedings Reliability Physics Symposium 1988 Reliability Physics Symposium 1988. 26th Annual Proceedings., International. :230-233 1988
Relation: 26th Annual Proceedings Reliability Physics Symposium 1988
-
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
المؤلفون: Umemura, E., Ito, M., Tokura, T., Nagashima, W., Kimura, H., Kobayashi, Y., Tachibana, M., Miyauchi, M., Arao, M., Ozaki, N., Kurita, K.
المصدر: In International Journal of Oral & Maxillofacial Surgery October 2015 44 Supplement 1:e153-e155
-
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
المؤلفون: Umemura, E., Ito, M., Tokura, T., Nagashima, W., Kimura, H., Kobayashi, Y., Miyauchi, M., Arao, M., Ozaki, N., Kurita, K.
المصدر: In International Journal of Oral & Maxillofacial Surgery March 2017 46 Supplement 1:353-354
-
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.