يعرض 1 - 10 نتائج من 23 نتيجة بحث عن '"Wajda, C. S."', وقت الاستعلام: 0.95s تنقيح النتائج
  1. 1
    مؤتمر
    Hardware Algorithm Co-optimization on Resistive RAM Cross-bar Array for Scalable Analog Compute Technology for AI application

    المؤلفون: Kim, Y., Seo, S.-C., Jamison, P., Consiglio, S., Higuchi, H., Miyazoe, H., Solomon, P., Kim, S., Gokmen, T., Tapily, K., Clark, R. D., Tsunomura, T., Wajda, C. S., Haensch, W., Soave, R., Leusink, G. J., Narayanan, V., Ando, T.

    المصدر: 2021 Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW) Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW), 2021. :1-2 Jun, 2021

    Relation: 2021 Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW)

    Full Text Finder
    أضف إلى المفضلة
  2. 2
    مؤتمر
    Mechanistic understanding of mobility degradation on gate-last ZrO2 with medium thermal budget annealing

    المؤلفون: Ngai, T., Clark, R. D., Veksler, D., Matthews, K., Bersch, E., Gilmer, D.C., Bersuker, G., Hill, R., Hobbs, C., Tapily, K., Wajda, C. S., Consiglio, S., Burroughs, T., Vivekanand, S., Kaushik, V., Leusink, G. J., Kirsch, P.D.

    المصدر: Proceedings of Technical Program - 2014 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Application (VLSI-TSA) VLSI Technology, Systems and Application (VLSI-TSA), Proceedings of Technical Program - 2014 International Symposium on. :1-2 Apr, 2014

    Relation: 2014 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Application (VLSI-TSA)

    Full Text Finder
    أضف إلى المفضلة
  3. 3
    مؤتمر
    Effective Schottky Barrier Height modulation using dielectric dipoles for source/drain specific contact resistivity improvement

    المؤلفون: Ang, K.-W., Majumdar, K., Matthews, K., Young, C. D., Kenney, C., Hobbs, C., Kirsch, P. D., Jammy, R., Clark, R. D., Consiglio, S., Tapily, K., Trickett, Y., Nakamura, G., Wajda, C. S., Leusink, G. J., Rodgers, M., Gausepohl, S. C.

    المصدر: 2012 International Electron Devices Meeting Electron Devices Meeting (IEDM), 2012 IEEE International. :18.6.1-18.6.4 Dec, 2012

    Relation: 2012 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)

    Full Text Finder
    أضف إلى المفضلة
  4. 4
    دورية أكاديمية

    لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.

    View this record from ISI Web of Science
    أضف إلى المفضلة
  5. 5
    دورية أكاديمية

    لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.

    View this record from ISI Web of Science
    أضف إلى المفضلة
  6. 6
    دورية أكاديمية

    لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.

    View this record from ISI Web of Science
    أضف إلى المفضلة
  7. 7
    دورية أكاديمية
    Post Plasma Oxidation Processed ALD Al2O3/Hf1-xZrxO2 Thin Films on Ge Substrates: Reliability.

    المؤلفون: Bhuyian, M. N., Shao, P., Sengupta, A., Ding, Y., Misra, D., Tapily, K., Clark, R. D., Consiglio, S., Wajda, C. S., Leusink, G. J.

    المصدر: ECS Journal of Solid State Science & Technology; 2018, Vol. 7 Issue 2, pN1-N6, 6p

    View this record from the Institute of Physics
    أضف إلى المفضلة
  8. 8
    دورية أكاديمية

    لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.

    View this record from ISI Web of Science
    أضف إلى المفضلة
  9. 9
    دورية أكاديمية

    لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.

    View this record from ISI Web of Science
    أضف إلى المفضلة
  10. 10
    دورية أكاديمية

    لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.

    View this record from ISI Web of Science
    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS – أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني – حفظ البحث – جدول التنبيهات: لا شيء