-
1كتاب إلكتروني
المؤلفون: Ashworth, V.Aff2, Baxter, D.Aff3, Grant, W. A.Aff3, Proctor, R. P. M.Aff2, Wellington, T. C.Aff2
المساهمون: Namba, Susumu, editorAff1
المصدر: Ion Implantation in Semiconductors : Science and Technology. :367-373
-
2كتاب إلكتروني
المؤلفون: Walkier, J. A.Aff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :233-238
-
3كتاب إلكتروني
المؤلفون: Keating, James T.Aff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :69-80
-
4كتاب إلكتروني
المؤلفون: Borrione, PierluigiAff2, Ottaviani, AngeloAff3
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :93-104
-
5كتاب إلكتروني
المؤلفون: Miyake, HaruhisaAff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :59-67
-
6كتاب إلكتروني
المؤلفون: Alford, R. E.Aff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :43-57
-
7كتاب إلكتروني
المؤلفون: Yeager, Howard L.Aff2, Gronowski, Adam A.Aff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :81-92
-
8كتاب إلكتروني
المؤلفون: Abbott, PejAff2, Carlin, M.Aff2, Fakley, M. E.Aff2, Hancock, F. E.Aff2, King, F.Aff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :23-34
-
9كتاب إلكتروني
المؤلفون: Shields, James PAff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :35-41
-
10كتاب إلكتروني
المؤلفون: Perham, Donald A.Aff2
المساهمون: Wellington, T. C., editorAff1
المصدر: Modern Chlor-Alkali Technology : Volume 5. :13-22