المؤلفون: Kovalenko, D. L.^Aff13, Gaishun, V. E.^Aff13, Kosenok, Ya. A.^Aff13, Tyulenkova, O. I.^Aff13, Vaskevich, V. V.^Aff13, Moskvichyov, M. I.^Aff13, Aleshkevich, N. A.^Aff13, Ignatenko, O. V.^Aff14, Zemtsova, E. G.^Aff15

المساهمون: Kacprzyk, Janusz, Series Editor^Aff1, Gomide, Fernando, Advisory Editor^Aff2, Kaynak, Okyay, Advisory Editor^Aff3, Liu, Derong, Advisory Editor^Aff4, Pedrycz, Witold, Advisory Editor^Aff5, Polycarpou, Marios M., Advisory Editor^Aff6, Rudas, Imre J., Advisory Editor^Aff7, Wang, Jun, Advisory Editor^Aff8, Khakhomov, Sergei, editor^Aff9, Semchenko, Igor, editor^Aff10, Demidenko, Oleg, editor^Aff11, Kovalenko, Dmitry, editor^Aff12

المصدر: Research and Education: Traditions and Innovations : Proceedings of the 19th International Conference on Global Research and Education (Inter-Academia 2021). 422:243-249

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Xueming Xia, Alaric Taylor, Yifan Zhao, Stefan Guldin, Chris Blackman

المصدر: Materials, Vol 12, Iss 9, p 1429 (2019)

مصطلحات موضوعية: chemical vapor deposition, atomic layer deposition, aluminum oxide, aluminum tri-sec-butoxide, thin film, Technology, Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering, TK1-9971, Engineering (General). Civil engineering (General), TA1-2040, Microscopy, QH201-278.5, Descriptive and experimental mechanics, QC120-168.85

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://www.mdpi.com/1996-1944/12/9/1429; https://doaj.org/toc/1996-1944

URL الوصول: https://doaj.org/article/b29ea21eac5a488593fc972492404c8a

المؤلفون: Mazilu, Dan A., Ritter, A.L.

المصدر: Tribology Letters. January 2001 9(3-4):153-159

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.