-
1كتاب إلكتروني
المؤلفون: Kovalenko, D. L.Aff13, Gaishun, V. E.Aff13, Kosenok, Ya. A.Aff13, Tyulenkova, O. I.Aff13, Vaskevich, V. V.Aff13, Moskvichyov, M. I.Aff13, Aleshkevich, N. A.Aff13, Ignatenko, O. V.Aff14, Zemtsova, E. G.Aff15
المساهمون: Kacprzyk, Janusz, Series EditorAff1, Gomide, Fernando, Advisory EditorAff2, Kaynak, Okyay, Advisory EditorAff3, Liu, Derong, Advisory EditorAff4, Pedrycz, Witold, Advisory EditorAff5, Polycarpou, Marios M., Advisory EditorAff6, Rudas, Imre J., Advisory EditorAff7, Wang, Jun, Advisory EditorAff8, Khakhomov, Sergei, editorAff9, Semchenko, Igor, editorAff10, Demidenko, Oleg, editorAff11, Kovalenko, Dmitry, editorAff12
المصدر: Research and Education: Traditions and Innovations : Proceedings of the 19th International Conference on Global Research and Education (Inter-Academia 2021). 422:243-249
-
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
3دورية أكاديمية
المؤلفون: Xueming Xia, Alaric Taylor, Yifan Zhao, Stefan Guldin, Chris Blackman
المصدر: Materials, Vol 12, Iss 9, p 1429 (2019)
مصطلحات موضوعية: chemical vapor deposition, atomic layer deposition, aluminum oxide, aluminum tri-sec-butoxide, thin film, Technology, Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering, TK1-9971, Engineering (General). Civil engineering (General), TA1-2040, Microscopy, QH201-278.5, Descriptive and experimental mechanics, QC120-168.85
وصف الملف: electronic resource
-
4دورية أكاديمية
المؤلفون: Mazilu, Dan A., Ritter, A.L.
المصدر: Tribology Letters. January 2001 9(3-4):153-159
-
5دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
9دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.