-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: K. Toshiro DOI, Hideo AIDA, Osamu OHNISHI, Shaohui YIN, Yinghui REN
المصدر: Jin'gangshi yu moliao moju gongcheng, Vol 42, Iss 6, Pp 637-649 (2022)
مصطلحات موضوعية: chemical mechanical polishing (cmp), hard-to-process substrate, chamber-type equipment, plasma chemical vaporization machining, plasma fusion cmp, pseud radical field, processing mechanism, Materials of engineering and construction. Mechanics of materials, TA401-492, Mechanical engineering and machinery, TJ1-1570
وصف الملف: electronic resource
Relation: https://doaj.org/toc/1006-852X
-
2دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.