نتائج البحث - "inductively coupled plasma (icp)"

تحديد النتيجة رقم 1
1

مؤتمر

Electromagnetic Design of Excitation Coils for an Inductively-Coupled Plasma Etching System

المؤلفون: Molles, Jack, Popovic, Zoya, Shukla, Prasoon, Peng, Shen

المصدر: 2024 IEEE Wireless and Microwave Technology Conference (WAMICON) Wireless and Microwave Technology Conference (WAMICON), 2024 IEEE. :1-4 Apr, 2024

Relation: 2024 IEEE Wireless and Microwave Technology Conference (WAMICON)

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 2
2

دورية أكاديمية

Boron Nitride Nanotubes: Plasma-Aided Technologies, Equipment, and Market

المؤلفون: Matveev, I.

المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 52(4):1153-1156 Apr, 2024

Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 3
3

دورية أكاديمية

Multispectral Diagnosis of Plasma Electron Temperature Based on Electron Collision Cross Section Model

المؤلفون: Li, F., Li, J., Zheng, Y., Guo, L., Liu, W., Liu, Z.

المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 51(12):3579-3584 Dec, 2023

Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 4
4

دورية أكاديمية

Investigation Ion Beam Extraction for Increase Thrust, Efficiency, and Lifetime of RF-ICP Ion Thruster

المؤلفون: Fazelpour, S., Sadeghi, H., Habibi, M., Chakhmachi, A., Omrani, M.

المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 51(10):2988-3001 Oct, 2023

Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 5
5

دورية أكاديمية

Design of 10 kW, 400 kHz AC Power Supply for Ferrite Inductively Coupled Plasma

المؤلفون: Kim, T., Bae, J., Son, S., Kwon, C., Yu, C., Kim, H., Jang, S.

المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 51(10):2788-2796 Oct, 2023

Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 6
6

دورية أكاديمية

Plasma-Assisted Ammonia Combustion—Part 2: Combustion of Ammonia in Oxygen

المؤلفون: Matveev, I.B., Serbin, S.I.

المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 51(8):2290-2294 Aug, 2023

Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 7
7

دورية أكاديمية

Multi-cycle Chamber Conditioning for Plasma Etching of SiO2: From Optimization to Stability in Lot Processing

المؤلفون: Nawaz, Ali^{Aff1, IDs11090024104935_cor1}, Cian, Alessandro, Ferrario, Lorenza, Picciotto, Antonino

المصدر: Plasma Chemistry and Plasma Processing. :1-19

Find this article in full text from Springer Verlag. Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 8
8

مؤتمر

Enabling Plasma Etch Solution for GaN Technology

المؤلفون: Wang, Zoe, Guo, Chunxiang, Liu, Jian, Feng, Yingxiong, Guan, Lulu, Xu, Kangning, Huang, Qiao, Chen, Lu, Xu, Kaidong

المصدر: 2023 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC) Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), 2023 China. :1-3 Jun, 2023

Relation: 2023 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC)

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 9
9

دورية أكاديمية

Investigation of Inductively-Coupled Plasma Density by Comparing the THz Waveforms in the Time Domain

المؤلفون: Kang, K., Roh, K., Lee, H., Jeon, S., Suk, H.

المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 51(3):754-761 Mar, 2023

Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:
تحديد النتيجة رقم 10
10

دورية أكاديمية

Characterization of Plasma Discharge in a Multi Dipole Line Cusp Magnetic Field Created by an RF Source Coupled by a Spiral Antenna

المؤلفون: Ansari, M.A., Patel, A.D., Alli, A.D., Chattopadhyay, P.K., Ramasubramanian, N., Raju, D., Singh, R.

المصدر: IEEE Transactions on Plasma Science IEEE Trans. Plasma Sci. Plasma Science, IEEE Transactions on. 51(3):625-631 Mar, 2023

Full Text Finder

أضف إلى المفضلة

محفوظ في:

تنقيح النتائج