-
1دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
2دورية أكاديميةBlock Co-Polymers for Nanolithography: Rapid Microwave Annealing for Pattern Formation on Substrates
المؤلفون: Dipu Borah, Sozaraj Rasappa, Ramsankar Senthamaraikannan, Justin D. Holmes, Michael A. Morris
المصدر: Polymers, Vol 7, Iss 4, Pp 592-609 (2015)
مصطلحات موضوعية: polymer brush, block copolymer, silicon nitride substrate, solvothermal process, microwave anneal, self-assembly, graphoepitaxy, plasma etching, nanoscale patterns, Organic chemistry, QD241-441
وصف الملف: electronic resource
-
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
5
المؤلفون: Christian Pellerin, C. Geraldine Bazuin, Arri Priimagi, Josué Grosrenaud, Jaana Vapaavuori, Antti Siiskonen
المساهمون: Université de Montréal. Faculté des arts et des sciences. Département de chimie
المصدر: ACS Applied Nano Materials. 2:3526-3537
مصطلحات موضوعية: Dip-coating, Fabrication, Materials science, Hydrogen bond, Photocontrol, Supramolecular chemistry, Nanoscale patterns, 02 engineering and technology, 010402 general chemistry, 021001 nanoscience & nanotechnology, 01 natural sciences, 0104 chemical sciences, Block copolymer thin films, Solvent, Chemical engineering, Supramolecular, Copolymer, General Materials Science, Azo-containing, Thin film, 0210 nano-technology, Nanoscopic scale
وصف الملف: application/pdf
-
6دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
7دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
8دورية أكاديميةSynthesis of highly ordered nanopores on a photoresist template for applications in nanofabrications
المؤلفون: Bwana, Nicholas N., Leigh, Peter
المصدر: Journal of Nanoparticle Research: An Interdisciplinary Forum for Nanoscale Science and Technology. February 2008 10(2):353-356
-
9Block Co-Polymers for Nanolithography: Rapid Microwave Annealing for Pattern Formation on Substrates
المؤلفون: Michael A. Morris, Ramsankar Senthamaraikannan, Sozaraj Rasappa, Dipu Borah, Justin D. Holmes
المصدر: Polymers
Volume 7
Issue 4
Pages 592-609
Polymers, Vol 7, Iss 4, Pp 592-609 (2015)مصطلحات موضوعية: Polymer brush, Solvothermal process, Polymers and Plastics, Block copolymer, Annealing (metallurgy), 02 engineering and technology, 01 natural sciences, Self-assembled nanolithography, chemistry.chemical_compound, Graphoepitaxy, Plasma etching, Self-assembly, self-assembly, 021001 nanoscience & nanotechnology, PMMA, Nanolithography, Silicon nitride, silicon nitride substrate, 0210 nano-technology, polymer brush, Silicon, Lithography, Materials science, Fabrication, Thin films, plasma etching, chemistry.chemical_element, block copolymer, Nanotechnology, 010402 general chemistry, nanoscale patterns, lcsh:QD241-441, lcsh:Organic chemistry, Orientation, Microwave anneal, solvothermal process, Thin film, Silicon nitride substrate, Arrays, graphoepitaxy, Systems, General Chemistry, PS-b-PDMS, 0104 chemical sciences, microwave anneal, chemistry
وصف الملف: application/pdf
-
10دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.