لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Jiwoong Ham, Hyeong-U Kim, Nari Jeon

المصدر: Polymers, Vol 15, Iss 12, p 2616 (2023)

مصطلحات موضوعية: indium oxide, polyaniline, cyclic voltammetry, sequential infiltration synthesis (SIS), conducting polymer, Organic chemistry, QD241-441

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://www.mdpi.com/2073-4360/15/12/2616; https://doaj.org/toc/2073-4360

URL الوصول: https://doaj.org/article/db1a9ae502ee46ca838db72e1f336e4b

المؤلفون: Jiwoong Ham, Minkyung Ko, Boyun Choi, Hyeong-U Kim, Nari Jeon

المصدر: Sensors, Vol 22, Iss 16, p 6132 (2022)

مصطلحات موضوعية: sequential infiltration synthesis (SIS), in situ fourier transform infrared spectroscopy, aluminum oxides, growth mechanism, atomic layer deposition (ALD), Chemical technology, TP1-1185

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://www.mdpi.com/1424-8220/22/16/6132; https://doaj.org/toc/1424-8220

URL الوصول: https://doaj.org/article/5977ab1fd3d140538c491bde60ef664f

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Frascaroli, Jacopo, Cianci, Elena, Spiga, Sabina, Seguini, Gabriele, Perego, Michele

المصدر: ACS Applied Materials & Interfaces
ACS applied materials & interfaces
8 (2016): 33933–33942. doi:10.1021/acsami.6b11340
info:cnr-pdr/source/autori:Frascaroli, Jacopo; Cianci, Elena; Spiga, Sabina; Seguini, Gabriele; Perego, Michele/titolo:Ozone-Based Sequential Infiltration Synthesis of Al2<%2Finf>O3<%2Finf> Nanostructures in Symmetric Block Copolymer/doi:10.1021%2Facsami.6b11340/rivista:ACS applied materials & interfaces (Print)/anno:2016/pagina_da:33933/pagina_a:33942/intervallo_pagine:33933–33942/volume:8

مصطلحات موضوعية: Materials science, Fabrication, Ozone, Nanostructure, FOS: Physical sciences, Nanotechnology, 02 engineering and technology, 010402 general chemistry, 01 natural sciences, chemistry.chemical_compound, atomic layer deposition (ALD), PS-b-PMMA, Copolymer, General Materials Science, TMA, Thin film, Lithography, Condensed Matter - Materials Science, technology, industry, and agriculture, Materials Science (cond-mat.mtrl-sci), Al O 2 3, Atmospheric temperature range, 021001 nanoscience & nanotechnology, 0104 chemical sciences, ozone, chemistry, Reagent, block copolymer (BCP), 0210 nano-technology, sequential infiltration synthesis (SIS)

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::7b7adf34a67b56ce7a979553ca4d59ca

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.