المؤلفون: Das, Ujjwal, Theisen, Robert, Hanket, Greg, Upadhyaya, Ajay, Rohatgi, Ajeet, Hua, Amandee, Weinhardt, Lothar, Hauschild, Dirk, Heske, Clemens

المصدر: 2020 47th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC) Photovoltaic Specialists Conference (PVSC), 2020 47th IEEE. :1167-1170 Jun, 2020

Relation: 2020 IEEE 47th Photovoltaic Specialists Conference (PVSC)

المؤلفون: Lopez, G., Jin, C., Martin, I., Alcubilla, R.

المصدر: IEEE Journal of Photovoltaics IEEE J. Photovoltaics Photovoltaics, IEEE Journal of. 8(4):976-981 Jul, 2018

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Monica Morales-Masis, Gizem Nogay, Andrea Ingenito, Philipp Löper, Nathalie Valle, Christophe Ballif, Franz-Josef Haug, Christophe Allebe, Quentin Jeangros, Matthieu Despeisse, Santhana Eswara, Tom Wirtz, Takashi Koida, Jörg Horzel, Esteban Rucavado

المصدر: Nature Energy. 3:800-808

مصطلحات موضوعية: Materials science, microcrystalline silicon, Passivation, Silicon, si surface passivation, Energy Engineering and Power Technology, chemistry.chemical_element, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, 01 natural sciences, law.invention, law, 0103 physical sciences, Solar cell, Wafer, Crystalline silicon, Thin film, 010302 applied physics, Renewable Energy, Sustainability and the Environment, business.industry, Open-circuit voltage, crystalline-silicon, glow-discharge, chemical-vapor-deposition, selective rear contacts, 021001 nanoscience & nanotechnology, Electronic, Optical and Magnetic Materials, Fuel Technology, chemistry, thin-films, hydrogen, mass-production, interface, Optoelectronics, 0210 nano-technology, business

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::935ff8ac36424a4c2c10524911af0989
https://doi.org/10.1038/s41560-018-0239-4

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

المؤلفون: Shuo Li, Yameng Bao, Hele Savin, Päivikki Repo, Guillaume von Gastrow, Matti Putkonen

المساهمون: VTT Technical Research Centre of Finland, Hele Savin Group, Department of Micro and Nanosciences, Aalto-yliopisto, Aalto University

المصدر: von Gastrow, G, Li, S, Repo, P, Bao, Y, Putkonen, M & Savin, H 2013, ' Ozone-based batch atomic layer deposited Al 2 O 3 for effective surface passivation ', Energy Procedia, vol. 38, pp. 890-894 . https://doi.org/10.1016/j.egypro.2013.07.361

مصطلحات موضوعية: Ozone, Passivation, ta213, ta114, Annealing (metallurgy), Ozone concentration, Atomic layer deposition, Inorganic chemistry, ta221, Analytical chemistry, Si surface passivation, Water based, aluminum oxide, chemistry.chemical_compound, ozone, chemistry, Energy(all), Negative charge, ta318, Effective surface, ta216, ta116

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::52bdfd83a0c964585fca56dc76e6dfaf

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.

لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.