-
1مؤتمر
المؤلفون: Li, Yanli, Liu, Xianhe, Wang, Qi, Wu, Qiang
المصدر: 2023 IEEE 15th International Conference on ASIC (ASICON) ASIC (ASICON), 2023 IEEE 15th International Conference on. :1-4 Oct, 2023
Relation: 2023 IEEE 15th International Conference on ASIC (ASICON)
-
2دورية أكاديمية
المؤلفون: Ziqi Li, Lisong Dong, Xu Ma, Yayi Wei
المصدر: Opto-Electronic Advances, Vol 7, Iss 4, Pp 1-11 (2024)
مصطلحات موضوعية: computational lithography, high-na euv lithography, source-mask co-optimization, lithography imaging model, Optics. Light, QC350-467
وصف الملف: electronic resource
Relation: https://doaj.org/toc/2096-4579
-
3دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل. -
4دورية أكاديمية
لا يتم عرض هذه النتيجة على الضيوف.
تسجيل الدخول للوصول الكامل.