دورية أكاديمية
Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films
العنوان: | Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films |
---|---|
المؤلفون: | Mari Napari, Tahmida N. Huq, Tuhin Maity, Daisy Gomersall, Kham M. Niang, Armin Barthel, Juliet E. Thompson, Sami Kinnunen, Kai Arstila, Timo Sajavaara, Robert L. Z. Hoye, Andrew J. Flewitt, Judith L. MacManus‐Driscoll |
المصدر: | InfoMat, Vol 2, Iss 4, Pp 769-774 (2020) |
بيانات النشر: | Wiley, 2020. |
سنة النشر: | 2020 |
المجموعة: | LCC:Materials of engineering and construction. Mechanics of materials LCC:Information technology |
مصطلحات موضوعية: | atomic layer deposition, chemical vapor deposition, nickel oxide, solution deposition, thin films, Materials of engineering and construction. Mechanics of materials, TA401-492, Information technology, T58.5-58.64 |
نوع الوثيقة: | article |
وصف الملف: | electronic resource |
اللغة: | English |
تدمد: | 2567-3165 |
Relation: | https://doaj.org/toc/2567-3165 |
DOI: | 10.1002/inf2.12076 |
URL الوصول: | https://doaj.org/article/bb51c99d6af44dbc8cb65045657ea420 |
رقم الأكسشن: | edsdoj.bb51c99d6af44dbc8cb65045657ea420 |
قاعدة البيانات: | Directory of Open Access Journals |
تدمد: | 25673165 |
---|---|
DOI: | 10.1002/inf2.12076 |