دورية أكاديمية

Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films
المؤلفون: Mari Napari, Tahmida N. Huq, Tuhin Maity, Daisy Gomersall, Kham M. Niang, Armin Barthel, Juliet E. Thompson, Sami Kinnunen, Kai Arstila, Timo Sajavaara, Robert L. Z. Hoye, Andrew J. Flewitt, Judith L. MacManus‐Driscoll
المصدر: InfoMat, Vol 2, Iss 4, Pp 769-774 (2020)
بيانات النشر: Wiley, 2020.
سنة النشر: 2020
المجموعة: LCC:Materials of engineering and construction. Mechanics of materials
LCC:Information technology
مصطلحات موضوعية: atomic layer deposition, chemical vapor deposition, nickel oxide, solution deposition, thin films, Materials of engineering and construction. Mechanics of materials, TA401-492, Information technology, T58.5-58.64
نوع الوثيقة: article
وصف الملف: electronic resource
اللغة: English
تدمد: 2567-3165
Relation: https://doaj.org/toc/2567-3165
DOI: 10.1002/inf2.12076
URL الوصول: https://doaj.org/article/bb51c99d6af44dbc8cb65045657ea420
رقم الأكسشن: edsdoj.bb51c99d6af44dbc8cb65045657ea420
قاعدة البيانات: Directory of Open Access Journals
الوصف
تدمد:25673165
DOI:10.1002/inf2.12076