دورية أكاديمية
A Patterning-Based Strain Engineering for Sub-22 nm Node FinFETs
العنوان: | A Patterning-Based Strain Engineering for Sub-22 nm Node FinFETs |
---|---|
المؤلفون: | Schmidt, M., Suess, M. J., Barros, A. D., Geiger, R., Sigg, H., Spolenak, R., Minamisawa, R. A. |
المصدر: | IEEE Electron Device Letters IEEE Electron Device Lett. Electron Device Letters, IEEE. 35(3):300-302 Mar, 2014 |
قاعدة البيانات: | IEEE Xplore Digital Library |
تدمد: | 07413106 15580563 |
---|---|
DOI: | 10.1109/LED.2014.2300865 |