دورية أكاديمية

Laser Spike Annealing for Shallow Junctions in Ge CMOS

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Laser Spike Annealing for Shallow Junctions in Ge CMOS
المؤلفون: Hsu, W., Wen, F., Wang, X., Wang, Y., Dolocan, A., Roy, A., Kim, T., Tutuc, E., Banerjee, S.K.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 64(2):346-352 Feb, 2017
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library
الوصف
تدمد:00189383
15579646
DOI:10.1109/TED.2016.2635625