دورية أكاديمية

Enhanced Reliability of Ferroelectric HfZrOx on Semiconductor by Using Epitaxial SiGe as Substrate

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Enhanced Reliability of Ferroelectric HfZrOx on Semiconductor by Using Epitaxial SiGe as Substrate
المؤلفون: Chen, K., Huang, Y., Kao, R., Lin, Y., Hsieh, K., Wu, Y.
المصدر: IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 66(8):3636-3639 Aug, 2019
قاعدة البيانات: IEEE Xplore Digital Library