دورية أكاديمية
Enhanced Reliability of Ferroelectric HfZrOx on Semiconductor by Using Epitaxial SiGe as Substrate
العنوان: | Enhanced Reliability of Ferroelectric HfZrOx on Semiconductor by Using Epitaxial SiGe as Substrate |
---|---|
المؤلفون: | Chen, K., Huang, Y., Kao, R., Lin, Y., Hsieh, K., Wu, Y. |
المصدر: | IEEE Transactions on Electron Devices IEEE Trans. Electron Devices Electron Devices, IEEE Transactions on. 66(8):3636-3639 Aug, 2019 |
قاعدة البيانات: | IEEE Xplore Digital Library |
كن أول من يترك تعليقا!