دورية أكاديمية

Device performances and instabilities of channel engineered amorphous InGaZnO thin film transistors

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Device performances and instabilities of channel engineered amorphous InGaZnO thin film transistors
المؤلفون: Lee, Jun Hyeong, Park, Young Hwan, Shin, Joong-Won, Cho, Won-Ju, Park, Jong Tae
المصدر: In Microelectronics Reliability September 2019 100-101
قاعدة البيانات: ScienceDirect
الوصف
تدمد:00262714
DOI:10.1016/j.microrel.2019.113397