دورية أكاديمية

镓硼共掺对6英寸 VGF 法锗单晶电阻率均匀性的影响.

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: 镓硼共掺对6英寸 VGF 法锗单晶电阻率均匀性的影响. (Chinese)
Alternate Title: Influence of Ga-B Co-Doping on the Resistivity Uniformity of 6 inch Ge Single Crystal by VGF Method. (English)
المؤلفون: 张颖武, 边义午, 陈晨, 周春锋, 王云彪, 兰天平
المصدر: Semiconductor Technology; Aug2024, Vol. 49 Issue 8, p708-725, 18p
قاعدة البيانات: Complementary Index
الوصف
تدمد:1003353X
DOI:10.13290/j.cnki.bdtjs.2024.08.003