دورية أكاديمية

Lithography and radiation chemistry of epoxy containing negative electron resists.

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Lithography and radiation chemistry of epoxy containing negative electron resists.
المؤلفون: Thompson, L. F., Feit, E. D., Heidenreich, R. D.
المصدر: Polymer Engineering & Science; Jul1974, Vol. 14 Issue 7, p529-533, 5p
قاعدة البيانات: Complementary Index
الوصف
تدمد:00323888
DOI:10.1002/pen.760140713